| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 异丁烷脱氢制异丁烯的研究进展 | 第9-16页 |
| 1.2.1 异丁烷脱氢途径 | 第9页 |
| 1.2.2 异丁烷脱氢催化剂的研究进展 | 第9-16页 |
| 1.3 异丁烷脱氢制备异丁烯工艺研究进展 | 第16-21页 |
| 1.4 本论文研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 实验部分 | 第22-26页 |
| 2.1 催化剂的制备 | 第22-23页 |
| 2.1.1 药品 | 第22页 |
| 2.1.2 催化剂的制备 | 第22-23页 |
| 2.2 催化剂的表征 | 第23-24页 |
| 2.2.1 X 射线衍射(XRD) | 第23页 |
| 2.2.2 Raman 光谱 | 第23页 |
| 2.2.3 紫外可见漫反射光谱(UV-vis DRS) | 第23-24页 |
| 2.2.4 程序升温还原（TPR） | 第24页 |
| 2.2.5 氨气程序升温脱附（NH3-TPD） | 第24页 |
| 2.3 反应活性评价 | 第24-26页 |
| 2.3.1 反应装置介绍 | 第24-25页 |
| 2.3.2 产物检测 | 第25-26页 |
| 第三章 NiO-WO_3/γ-Al_2O_3催化剂的异丁烷氧化脱氢性能 | 第26-49页 |
| 3.1 催化剂表面组成与结构 | 第26-37页 |
| 3.1.1 XRD 结果分析 | 第26-28页 |
| 3.1.2 Raman 谱图分析 | 第28-32页 |
| 3.1.3 UV-vis DRS 谱图分析 | 第32-37页 |
| 3.2 催化剂的晶格氧活性 | 第37-41页 |
| 3.3 催化剂的表面酸性 | 第41-44页 |
| 3.4 催化剂的异丁烷氧化脱氢性能 | 第44-48页 |
| （1）W/Ni 比对 NiO-WO3/γ-Al_2O_3催化剂的异丁烷氧化脱氢性能的影响 | 第44-45页 |
| （2）煅烧温度对催化剂的异丁烷氧化脱氢性能的影响 | 第45-46页 |
| （3）活性组分浸渍顺序对催化剂的异丁烷氧化脱氢性能的影响 | 第46-47页 |
| （4）载体对催化剂的异丁烷氧化脱氢性能的影响 | 第47-48页 |
| 小结 | 第48-49页 |
| 第四章 NiO-MoO_3/γ-Al_2O_3系列催化剂的异丁烷氧化脱氢性能 | 第49-73页 |
| 4.1 催化剂表面组成与结构 | 第49-60页 |
| 4.1.1 XRD 结果分析 | 第49-51页 |
| 4.1.2 Raman 谱图分析 | 第51-55页 |
| 4.1.3 UV-vis DRS 谱图分析 | 第55-60页 |
| 4.2 催化剂晶格氧活性 | 第60-64页 |
| 4.3 催化剂表面酸性 | 第64-67页 |
| 4.4 催化剂的异丁烷氧化脱氢性能 | 第67-71页 |
| （1）Mo/Ni 比对 NiO-MoO_3/γ-Al_2O_3催化剂的异丁烷氧化脱氢性能的影响 | 第67-68页 |
| （2）煅烧温度对催化剂的异丁烷氧化脱氢性能的影响 | 第68-69页 |
| （3）活性组分浸渍顺序对催化剂的异丁烷氧化脱氢性能的影响 | 第69-70页 |
| （4）载体对催化剂的异丁烷氧化脱氢性能的影响 | 第70-71页 |
| 4.5 异丁烷氧化脱氢催化机理讨论与分析 | 第71页 |
| 小结 | 第71-73页 |
| 第五章 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
