| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 自然界的微纳结构 | 第10-11页 |
| 1.2 传统微纳结构制备方法 | 第11-14页 |
| 1.2.1 光刻技术 | 第11-12页 |
| 1.2.2 自组装技术 | 第12-13页 |
| 1.2.3 微探针技术 | 第13页 |
| 1.2.4 纳米压印技术 | 第13-14页 |
| 1.3 课题研究背景 | 第14-17页 |
| 1.3.1 激光诱导表面结构 | 第14-16页 |
| 1.3.2 液相激光烧蚀法 | 第16-17页 |
| 1.4 本文主要内容 | 第17-19页 |
| 第二章 激光与表面相互作用物理模型 | 第19-24页 |
| 2.1 斯托克斯波与反斯托克斯波干涉模型 | 第19页 |
| 2.2 表面散射波与入射光干涉模型 | 第19-21页 |
| 2.3 熔融毛细波模型 | 第21-22页 |
| 2.4 表面等离子体波与主光束干涉模型 | 第22-24页 |
| 第三章 基于晶格缺陷层的激光等离子体波耦合模型 | 第24-35页 |
| 3.1 实验设备的搭建 | 第24-25页 |
| 3.2 不同偏振脉冲序列诱导表面微纳结构 | 第25-30页 |
| 3.2.1 透镜诱导微纳结构 | 第25-26页 |
| 3.2.2 物镜诱导微纳结构 | 第26-30页 |
| 3.3 激光诱导表面周期结构XRD和EDS研究 | 第30-32页 |
| 3.3.1 XRD测试结果 | 第30-31页 |
| 3.3.2 EDS测试结果 | 第31-32页 |
| 3.4 基于晶格缺陷层的耦合模型 | 第32-35页 |
| 第四章 基于微流控芯片的液相激光烧蚀法 | 第35-44页 |
| 4.1 制备纳米材料系统的搭建 | 第35-37页 |
| 4.1.1 激光烧蚀微流控芯片制备 | 第35-36页 |
| 4.1.2 微流控加工平台搭建 | 第36-37页 |
| 4.2 微流控激光烧蚀法制备纳米结构 | 第37-41页 |
| 4.2.1 激光烧蚀功率对硅纳米结构表面形貌的影响 | 第37-38页 |
| 4.2.2 吸收光谱和发射光谱测试 | 第38-39页 |
| 4.2.3 烧蚀硅纳米粒子的物理机制 | 第39-41页 |
| 4.3 研究微流控流速与制备效率关系 | 第41-44页 |
| 第五章 总结与展望 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 作者简介及科研情况 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |