| 中文摘要 | 第8-10页 |
| Abstract | 第10-11页 |
| 符号说明 | 第12-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-20页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 高频铁磁共振 | 第14-15页 |
| 1.3 多铁性材料的发展 | 第15-17页 |
| 1.4 磁电耦合效应 | 第17-18页 |
| 1.5 本文的结构安排 | 第18-20页 |
| 第2章 样品制备与测量表征方法 | 第20-30页 |
| 2.1 材料的制备方法 | 第20-22页 |
| 2.1.1 纳米粉体的制备 | 第20页 |
| 2.1.2 薄膜材料的制备 | 第20-22页 |
| 2.2 材料的表征方法 | 第22-23页 |
| 2.3 材料的测量方法 | 第23-30页 |
| 第3章 GdFeO_3纳米粉体的制备及其电磁特性 | 第30-40页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 GdFeO_3样品的制备 | 第30-31页 |
| 3.3 GdFeO_3样品的表征 | 第31-32页 |
| 3.4 样品的测量结果与讨论 | 第32-39页 |
| 3.4.1 烧结温度对电磁参数影响 | 第33-36页 |
| 3.4.2 样品厚度对电磁参数的影响 | 第36-37页 |
| 3.4.3 GdFeO_3样品的磁电耦合特性 | 第37-39页 |
| 3.5 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 铁磁/半导体层状薄膜器件的构筑 | 第40-50页 |
| 4.1 引言 | 第40-41页 |
| 4.2 薄膜制备以及测量原理 | 第41-42页 |
| 4.2.1 薄膜的制备 | 第41页 |
| 4.2.2 磁性薄膜的复磁导率 | 第41-42页 |
| 4.2.3 器件测试夹具设计原理 | 第42页 |
| 4.3 薄膜样品的测量 | 第42-49页 |
| 4.3.1 FeCo薄膜的测量结果与讨论 | 第42-46页 |
| 4.3.2 FeNi薄膜的测量结果与讨论 | 第46-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 铁磁/铁电多层材料的研究 | 第50-61页 |
| 5.1 引言 | 第50-51页 |
| 5.2 样品的制备 | 第51-53页 |
| 5.2.1 YIG靶材的制备工艺 | 第51-53页 |
| 5.2.2 YIG薄膜的制备 | 第53页 |
| 5.3 铁磁/铁电多层结构样品的测量 | 第53-59页 |
| 5.3.1 FeCo/PMN-PT的测量结果与讨论 | 第53-56页 |
| 5.3.2 YIG/PMN-PT的测量结果与讨论 | 第56-59页 |
| 5.4 本章小结 | 第59-61页 |
| 第6章 总结与展望 | 第61-63页 |
| 6.1 总结 | 第61-62页 |
| 6.2 展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 附件 | 第71页 |