| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-30页 |
| 1.1 研究背景 | 第12-14页 |
| 1.1.1 金属的腐蚀及危害 | 第12页 |
| 1.1.2 光生阴极保护技术简介 | 第12-14页 |
| 1.2 纳米TiO_2的结构与光电性质 | 第14-17页 |
| 1.2.1 纳米材料的特性 | 第14-15页 |
| 1.2.2 TiO_2的晶型结构 | 第15页 |
| 1.2.3 TiO_2的光催化原理 | 第15-16页 |
| 1.2.4 影响TiO_2光催化活性的因素 | 第16-17页 |
| 1.3 纳米TiO_2的制备方法 | 第17-19页 |
| 1.3.1 溶胶-凝胶法 | 第17-18页 |
| 1.3.2 水热法 | 第18页 |
| 1.3.3 液相沉积法 | 第18-19页 |
| 1.3.4 阳极氧化法 | 第19页 |
| 1.4 TiO_2的改性方法 | 第19-24页 |
| 1.4.1 贵金属沉积 | 第20页 |
| 1.4.2 离子掺杂 | 第20-22页 |
| 1.4.3 半导体复合 | 第22-23页 |
| 1.4.4 光敏化 | 第23-24页 |
| 1.5 TiO_2在不锈钢阴极保护中的应用及研究现状 | 第24-26页 |
| 1.6 金属硒化物的概述 | 第26-28页 |
| 1.6.1 金属硒化物的性质 | 第26页 |
| 1.6.2 金属硒化物的制备方法 | 第26-27页 |
| 1.6.3 金属硒化物改性TiO_2的研究现状 | 第27-28页 |
| 1.7 本研究的选题意义与内容 | 第28-30页 |
| 1.7.1 选题的目的与意义 | 第28页 |
| 1.7.2 课题的研究内容 | 第28-30页 |
| 第二章 实验部分 | 第30-35页 |
| 2.1 实验材料及仪器 | 第30-31页 |
| 2.1.1 光电材料制备原材料及实验试剂 | 第30页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第30-31页 |
| 2.1.3 钛基底的预处理 | 第31页 |
| 2.1.4 304 不锈钢电极的制备 | 第31页 |
| 2.2 材料表征设备及方法 | 第31-34页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜分析 | 第31-32页 |
| 2.2.2 能谱仪 | 第32-33页 |
| 2.2.3 X-射线衍射分析 | 第33页 |
| 2.2.4 紫外可见漫反射分析 | 第33-34页 |
| 2.3 电化学性能测试的方法 | 第34-35页 |
| 2.3.1 开路电位法 | 第34页 |
| 2.3.2 光电流密度-时间曲线 | 第34-35页 |
| 第三章 NiSe_2/Ti O_2纳米复合材料对304不锈钢的光生阴极保护 | 第35-48页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 实验部分 | 第35-38页 |
| 3.2.1 TiO_2纳米管薄膜的制备 | 第35-36页 |
| 3.2.2 NiSe_2/TiO_2纳米复合膜的制备 | 第36页 |
| 3.2.3 NiSe_2/TiO_2纳米复合膜的表征 | 第36页 |
| 3.2.4 电化学性能测试 | 第36-38页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第38-46页 |
| 3.3.1 NiSe_2/Ti O_2纳米复合膜的形貌表征 | 第38-40页 |
| 3.3.2 NiSe_2/TiO_2纳米复合膜的XRD分析 | 第40-41页 |
| 3.3.3 NiSe_2/TiO_2纳米复合膜的DRS分析 | 第41-43页 |
| 3.3.4 光电流-时间曲线分析 | 第43-44页 |
| 3.3.5 开路电位分析 | 第44-46页 |
| 3.3.6 TiO_2和NiSe_2的能带分析 | 第46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 WSe_2/TiO_2纳米复合材料对304不锈钢的光生阴极保护 | 第48-63页 |
| 4.1 前言 | 第48-49页 |
| 4.2 实验部分 | 第49-52页 |
| 4.2.1 TiO_2纳米管的制备 | 第49页 |
| 4.2.2 WSe_2/TiO_2纳米复合膜的制备 | 第49-50页 |
| 4.2.3 WSe_2/TiO_2纳米管复合膜的表征 | 第50页 |
| 4.2.4 电化学性能测试 | 第50-52页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第52-61页 |
| 4.3.1 WSe_2/TiO_2纳米复合膜的形貌表征 | 第52-55页 |
| 4.3.2 WSe_2/TiO_2纳米复合膜的XRD分析 | 第55-56页 |
| 4.3.3 WSe_2/TiO_2纳米复合膜的DRS分析 | 第56-57页 |
| 4.3.4 光电流密度-时间曲线分析 | 第57-58页 |
| 4.3.5 开路电位分析 | 第58-60页 |
| 4.3.6 TiO_2和WSe_2的电子传递分析 | 第60-61页 |
| 4.4 本章小结 | 第61-63页 |
| 第五章 结论与展望 | 第63-65页 |
| 5.1 总结论 | 第63-64页 |
| 5.2 创新点 | 第64页 |
| 5.3 展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第79-81页 |
