| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 研究背景及研究意义 | 第10-12页 |
| 1.2 超材料及转换光学介绍 | 第12-13页 |
| 1.3 国内外研究进展 | 第13-16页 |
| 1.3.1 磁屏蔽材料的发展现状 | 第13页 |
| 1.3.2 磁屏蔽与传输技术研究进展 | 第13-16页 |
| 1.4 本论文主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 基于转换光学的磁屏蔽及传输理论 | 第18-24页 |
| 2.1 转换光学基本原理 | 第18-19页 |
| 2.2 超导体-铁磁体超材料屏蔽结构设计原理及参数设定 | 第19-20页 |
| 2.2.1 屏蔽结构设计要求 | 第19页 |
| 2.2.2 屏蔽结构参数设计原理 | 第19-20页 |
| 2.3 超导体-铁磁体超材料磁传输结构设计原理 | 第20-21页 |
| 2.3.1 传输结构设计要求 | 第20-21页 |
| 2.3.2 传输结构参数设计 | 第21页 |
| 2.4 超导体超材料屏蔽结构和传输结构的理论基础 | 第21-23页 |
| 2.5 本章小结 | 第23-24页 |
| 第3章 超导体-铁磁体超材料磁屏蔽结构仿真研究 | 第24-34页 |
| 3.1 均匀外场结构及屏蔽效能的定义 | 第24-25页 |
| 3.1.1 均匀外场大小及结构 | 第24-25页 |
| 3.1.2 屏蔽效能的定义 | 第25页 |
| 3.2 屏蔽结构的几何结构及组成材料特性分析 | 第25-27页 |
| 3.2.1 屏蔽结构的四种几何结构 | 第25-26页 |
| 3.2.2 屏蔽结构的组成材料特性分析 | 第26-27页 |
| 3.3 磁屏蔽仿真结果分析 | 第27-32页 |
| 3.3.1 Helmholtz仿真模型 | 第27-29页 |
| 3.3.2 单一材料屏蔽性能的仿真研究 | 第29-30页 |
| 3.3.3 不同环绕方式下组合屏蔽结构的屏蔽性能仿真研究 | 第30-32页 |
| 3.4 本章小结 | 第32-34页 |
| 第4章 超导体-铁磁体超材料磁传输结构仿真与实验 | 第34-50页 |
| 4.1 磁传输结构的确定 | 第34-35页 |
| 4.2 磁传输结构设计的实验准备及仿真设计 | 第35-42页 |
| 4.2.1 磁传输结构所需材料 | 第35-37页 |
| 4.2.2 超导带材临界电流测试 | 第37-40页 |
| 4.2.3 组合传输圆柱制作 | 第40-41页 |
| 4.2.4 磁传输结构的仿真模型建立 | 第41-42页 |
| 4.3 磁传输结构的传输效能实验测试 | 第42-49页 |
| 4.3.1 磁传输结构的实验装置设计 | 第42-43页 |
| 4.3.2 磁传输结构的仿真结果 | 第43-45页 |
| 4.3.3 磁传输结构的实验及仿真结果对比分析 | 第45-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文及科研成果 | 第57页 |