30CrMnTi合金表面TiN薄膜的制备与性能研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 前言 | 第10-11页 |
| 1.2 刀具表面镀层技术的发展 | 第11-12页 |
| 1.3 真空离子镀膜技术概述 | 第12-15页 |
| 1.3.1 真空镀膜技术及其分类 | 第12-13页 |
| 1.3.2 真空离子镀膜技术及其原理 | 第13-14页 |
| 1.3.3 真空离子镀膜技术的发展与应用 | 第14-15页 |
| 1.4 氮化钛(TiN)薄膜材料 | 第15-16页 |
| 1.5 真空离子镀膜性能的影响因素 | 第16-19页 |
| 1.5.1 工艺参数 | 第16-18页 |
| 1.5.2 基体性能 | 第18-19页 |
| 1.5.3 膜层厚度 | 第19页 |
| 1.5.4 其他因素 | 第19页 |
| 1.6 30CrMnTi合金 | 第19-20页 |
| 1.7 磨削强化技术 | 第20-23页 |
| 1.7.1 磨削强化技术概述 | 第20-21页 |
| 1.7.2 磨削强化技术的特点 | 第21页 |
| 1.7.3 磨削强化技术的发展与应用 | 第21-22页 |
| 1.7.4 磨削强化技术研究中的问题 | 第22-23页 |
| 1.8 本文研究目的和内容 | 第23-26页 |
| 1.8.1 研究目的 | 第23-25页 |
| 1.8.2 主要研究内容 | 第25-26页 |
| 第2章 实验材料及实验方法 | 第26-33页 |
| 2.1 实验方案 | 第26页 |
| 2.2 实验材料 | 第26-27页 |
| 2.3 实验设备 | 第27-29页 |
| 2.3.1 真空离子镀膜设备 | 第27-29页 |
| 2.3.2 磨削强化设备 | 第29页 |
| 2.4 试样的制备 | 第29-31页 |
| 2.5 微观结构表征及测试方法 | 第31-32页 |
| 2.5.1 组织形貌分析 | 第31页 |
| 2.5.2 XRD物相分析 | 第31页 |
| 2.5.3 划痕测试 | 第31页 |
| 2.5.4 硬度测试 | 第31-32页 |
| 2.5.5 摩擦磨损测试 | 第32页 |
| 2.6 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 TiN薄膜制备工艺及性能研究 | 第33-49页 |
| 3.1 基体的金相分析 | 第33-34页 |
| 3.1.1 调质处理对金相组织变化的影响 | 第33-34页 |
| 3.1.2 镀膜对基体组织的影响 | 第34页 |
| 3.2 TiN薄膜扫描电镜分析 | 第34-39页 |
| 3.2.1 膜层剖面的电镜分析 | 第35-36页 |
| 3.2.2 TiN薄膜的表面形貌 | 第36-39页 |
| 3.3 TiN薄膜的能谱分析 | 第39-40页 |
| 3.4 TiN薄膜的XRD分析 | 第40-42页 |
| 3.5 显微硬度 | 第42-43页 |
| 3.6 耐磨性能 | 第43-47页 |
| 3.6.1 磨损质量 | 第43-45页 |
| 3.6.2 磨痕形貌 | 第45-47页 |
| 3.7 膜基结合力 | 第47-48页 |
| 3.8 本章小结 | 第48-49页 |
| 第4章 磨削强化对TiN薄膜性能的影响 | 第49-65页 |
| 4.1 基体的金相分析 | 第49页 |
| 4.2 磨削强化试样表面的金相分析 | 第49-52页 |
| 4.2.1 试样表层金相组织 | 第49-51页 |
| 4.2.2 试样膜层边界组织 | 第51-52页 |
| 4.3 磨削强化试样剖面的扫描电镜分析 | 第52-53页 |
| 4.4 TiN薄膜的能谱分析 | 第53-55页 |
| 4.5 显微硬度 | 第55-57页 |
| 4.5.1 磨削强化对基体硬度的影响 | 第55-56页 |
| 4.5.2 镀膜对硬度的影响 | 第56-57页 |
| 4.6 耐磨性能 | 第57-61页 |
| 4.6.1 磨损质量 | 第57-58页 |
| 4.6.2 磨痕形貌 | 第58-60页 |
| 4.6.3 比磨损率 | 第60-61页 |
| 4.7 摩擦系数 | 第61-62页 |
| 4.8 膜基结合力 | 第62-63页 |
| 4.9 本章小结 | 第63-65页 |
| 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
