| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·光谱椭偏简介 | 第10-16页 |
| ·特征 | 第10-12页 |
| ·应用 | 第12-14页 |
| ·发展历程 | 第14-15页 |
| ·展望 | 第15-16页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第16-17页 |
| 2 相关原理及方法简介 | 第17-40页 |
| ·基本理论 | 第18-21页 |
| ·椭偏法 | 第18-20页 |
| ·光度法基本理论 | 第20-21页 |
| ·数据分析 | 第21-23页 |
| ·拟合质量评价方法 | 第23-25页 |
| ·吸收薄膜的表征方法 | 第25-35页 |
| ·直接解法 | 第27页 |
| ·普通拟合方法 | 第27-28页 |
| ·多角度测量 | 第28-29页 |
| ·干涉加强法 | 第29-30页 |
| ·多样品分析法 | 第30页 |
| ·多环境分析法 | 第30-31页 |
| ·同时拟合椭偏参数和透过率法(SE + T法) | 第31-32页 |
| ·光学常数参数化法 | 第32-35页 |
| ·消除透明衬底背面反射光（背反） | 第35-39页 |
| ·数学模型矫正 | 第36页 |
| ·背底粗糙法 | 第36-37页 |
| ·折射率匹配法 | 第37-38页 |
| ·空间分束法 | 第38-39页 |
| ·提取透明衬底光学常数 | 第39页 |
| ·小结 | 第39-40页 |
| 3 薄膜制备及表征方法 | 第40-43页 |
| ·薄膜制备 | 第40-41页 |
| ·非晶硅（a-Si）薄膜制备 | 第40页 |
| ·类金刚石（DLC）薄膜制备 | 第40-41页 |
| ·表征方法 | 第41-42页 |
| ·分光光度计 | 第41页 |
| ·光谱椭偏仪 | 第41-42页 |
| ·WVASE32软件介绍 | 第42-43页 |
| 4 提取透明衬底光学常数 | 第43-55页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·折射率匹配法消除背反 | 第43-52页 |
| ·背反消除效果评价方法 | 第43-50页 |
| ·折射率匹配法消除背反 | 第50-52页 |
| ·提取透明衬底的光学常数 | 第52-55页 |
| ·提取透明衬底的折射率 | 第53-54页 |
| ·提取透明衬底的消光系数 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55页 |
| 5 非晶吸收薄膜厚度及光学常数的拟合分析 | 第55-67页 |
| ·背反对SE+T法拟合的影响 | 第56页 |
| ·衬底光学常数差异对SE+T法拟合的影响 | 第56-58页 |
| ·SE + T法拟合得到a-Si薄膜的厚度和光学常数 | 第58-61页 |
| ·SE + T法局限性分析 | 第61-62页 |
| ·光学常数参数化法和SE+T法联合拟合分析 | 第62-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文及研究成果 | 第75页 |