微下拉设备研制、单晶生长及功能晶体TbCOB的制备和性能研究
| 摘要 | 第1-15页 |
| ABSTRACT | 第15-21页 |
| 第一章 绪论 | 第21-61页 |
| ·引言 | 第21页 |
| ·微下拉晶体生长 | 第21-43页 |
| ·微下拉法(μ-PD)概述 | 第21-24页 |
| ·微下拉设备的发展及趋势 | 第24-34页 |
| ·微下拉单晶生长现状 | 第34-43页 |
| ·单晶光纤 | 第43-53页 |
| ·单晶光纤概述 | 第43-44页 |
| ·单晶光纤生长 | 第44-47页 |
| ·激光单晶光纤的原理及特点 | 第47-51页 |
| ·激光单晶光纤的研究现状 | 第51-53页 |
| ·功能晶体TbCa_4O(BO_3)_3 | 第53-57页 |
| ·研究背景 | 第53-56页 |
| ·提拉法(Cz法) | 第56-57页 |
| ·选题的意义、目的和主要研究内容 | 第57-61页 |
| 第二章 微下拉设备研制 | 第61-77页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·设备基本组成 | 第61-65页 |
| ·坩埚设计与优化 | 第65-67页 |
| ·温场设计与制作 | 第67-71页 |
| ·晶体生长成像系统 | 第71-75页 |
| ·设备稳定性优化 | 第75-77页 |
| 第三章 微下拉单晶生长及单晶光纤制备 | 第77-95页 |
| ·引言 | 第77页 |
| ·LiNbO_3晶体生长 | 第77-81页 |
| ·Y_3Al_5O_(12)晶体生长及表征 | 第81-85页 |
| ·单晶光纤的生长研究 | 第85-88页 |
| ·单晶光纤的基本表征 | 第88-93页 |
| ·本章小结 | 第93-95页 |
| 第四章 TbCOB晶体的生长、结构及热学性质 | 第95-119页 |
| ·引言 | 第95页 |
| ·固相法合成 | 第95-96页 |
| ·熔融特性 | 第96-97页 |
| ·晶体生长 | 第97-102页 |
| ·晶体质量表征 | 第102-104页 |
| ·晶体结构 | 第104-109页 |
| ·X射线单晶结构 | 第104-107页 |
| ·偏振拉曼振动分析 | 第107-109页 |
| ·热学性质 | 第109-117页 |
| ·比热 | 第110页 |
| ·热膨胀系数 | 第110-113页 |
| ·热膨胀各向异性 | 第113-115页 |
| ·热扩散及热导率 | 第115-117页 |
| ·本章小结 | 第117-119页 |
| 第五章 功能晶体TbCOB的光、电、磁性质 | 第119-145页 |
| ·引言 | 第119页 |
| ·线性光学性质 | 第119-124页 |
| ·透过范围 | 第119-120页 |
| ·吸收光谱 | 第120-121页 |
| ·折射率与光学主轴坐标系 | 第121-124页 |
| ·非线性光学性质 | 第124-130页 |
| ·主平面位相匹配 | 第124-125页 |
| ·二阶非线性光学性质 | 第125-128页 |
| ·激光倍频性能 | 第128-130页 |
| ·荧光性质 | 第130-133页 |
| ·压电性能 | 第133-140页 |
| ·压电方程和切型设计 | 第133-136页 |
| ·常温压电性能 | 第136-137页 |
| ·高温压电性能 | 第137-140页 |
| ·磁化行为与磁各向异性 | 第140-142页 |
| ·本章小结 | 第142-145页 |
| 第六章 倍频器件的微下拉定向生长与研究 | 第145-155页 |
| ·引言 | 第145页 |
| ·TbCOB空间位相匹配设计 | 第145-148页 |
| ·倍频器件的微下拉生长 | 第148-150页 |
| ·激光倍频性能评估 | 第150-152页 |
| ·接收角、走离角及激光损伤阈值 | 第152-154页 |
| ·本章小结 | 第154-155页 |
| 第七章 总结与展望 | 第155-161页 |
| ·主要结论 | 第155-158页 |
| ·主要创新点 | 第158-159页 |
| ·有待深入研究的内容 | 第159-161页 |
| 参考文献 | 第161-181页 |
| 攻读学位期间的学术论文及专利 | 第181-183页 |
| 攻读学位期间所获得奖励 | 第183-185页 |
| 攻读学位期间参加的会议 | 第185-187页 |
| 攻读学位期间参与的项目 | 第187-189页 |
| 致谢 | 第189-193页 |
| 附录 | 第193-205页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第205页 |
