| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·电致变色材料 | 第10-14页 |
| ·无机电致变色材料 | 第10-12页 |
| ·有机电致变色材料 | 第12-14页 |
| ·W0_3 薄膜的研究进展 | 第14-17页 |
| ·W0_3 薄膜的制备 | 第14-16页 |
| ·氧化钨电致变色薄膜的研究进展 | 第16-17页 |
| ·胶晶模板法制备3DOM 材料 | 第17-20页 |
| ·组装胶体晶体 | 第18-19页 |
| ·胶体晶体为模板制备大孔材料 | 第19-20页 |
| ·去除模板 | 第20页 |
| ·本文研究目的和内容 | 第20-21页 |
| 第2章 实验材料及试验方法 | 第21-25页 |
| ·实验仪器和设备 | 第21页 |
| ·实验试剂 | 第21页 |
| ·材料的形貌表征方法 | 第21-22页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第21-22页 |
| ·透射电子显微镜 | 第22页 |
| ·材料的结构与成分表征方法 | 第22页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第22页 |
| ·X 射线衍射技术 | 第22页 |
| ·材料的基本性能表征方法 | 第22-25页 |
| ·薄膜的循环伏安性能测试 | 第22页 |
| ·薄膜的透过率测试 | 第22页 |
| ·薄膜的光学密度性能测试 | 第22-23页 |
| ·薄膜的着色效率测试 | 第23页 |
| ·薄膜的响应时间测试 | 第23-24页 |
| ·薄膜的稳定性能测试 | 第24页 |
| ·薄膜的反射光谱测试 | 第24-25页 |
| 第3章 溶胶-凝胶法制备W0_3薄膜及其电致变色性能研究 | 第25-41页 |
| ·W0_3 薄膜的制备 | 第25-26页 |
| ·前躯体液的制备 | 第25页 |
| ·基片的清洗 | 第25页 |
| ·W0_3 薄膜的制备 | 第25-26页 |
| ·W0_3 薄膜的形貌与结构表征 | 第26-30页 |
| ·形貌表征与分析 | 第26-27页 |
| ·XPS 测试及分析 | 第27-29页 |
| ·XRD 测试及分析 | 第29-30页 |
| ·薄膜的电致变色性能研究 | 第30-40页 |
| ·薄膜的循环伏安特性 | 第30-34页 |
| ·薄膜的透过性能 | 第34-36页 |
| ·薄膜的光学密度测试 | 第36-37页 |
| ·薄膜的着色效率测试 | 第37-38页 |
| ·薄膜的电致变色响应时间测试 | 第38-39页 |
| ·阶跃寿命测试 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 3DOM 氧化钨薄膜的制备及其电致变色性能研究 | 第41-51页 |
| ·3DOM 氧化钨薄膜的制备 | 第41-42页 |
| ·前驱体液的制备 | 第41页 |
| ·PS 模板的制备 | 第41-42页 |
| ·3DOM 氧化钨薄膜的制备 | 第42页 |
| ·形貌分析 | 第42-44页 |
| ·PS 模板表面形貌分析 | 第42-43页 |
| ·3DOM 氧化钨薄膜表面形貌分析 | 第43-44页 |
| ·3DOM 氧化钨薄膜的电致变色性能研究 | 第44-50页 |
| ·循环伏安曲线 | 第44-46页 |
| ·薄膜的透过性能 | 第46-47页 |
| ·薄膜的光学密度测试 | 第47页 |
| ·薄膜的着色效率测试 | 第47-49页 |
| ·薄膜的响应时间测试 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第5章 3DOM 氧化钨薄膜的光子带隙特性研究 | 第51-60页 |
| ·Bragg-Snell 定律 | 第51-53页 |
| ·光子带隙特性研究 | 第53-59页 |
| ·PS 模板的光子带隙 | 第53页 |
| ·3DOM 氧化钨薄膜的光子带隙 | 第53-54页 |
| ·PS 模板的变角入射研究 | 第54-57页 |
| ·3DOM 薄膜的变角入射研究 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66页 |