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低维拓扑绝缘体材料的磁特性研究

中文摘要第1-3页
Abstract第3-4页
中文文摘第4-7页
第一章 绪论第7-21页
 第一节 自旋电子学第8-9页
 第二节 霍尔效应第9-12页
     ·量子霍尔效应第10-11页
     ·量子自旋霍尔效应第11-12页
 第三节 低维半导体第12-15页
     ·量子阱第13-14页
     ·量子点第14-15页
 第四节 拓扑绝缘体第15-19页
     ·拓扑绝缘体的基本性质第15-17页
     ·低维拓扑绝缘体的研究现状第17-19页
 第五节 本论文研究的基本思路及主要内容第19-21页
第二章 拓扑绝缘体的理论基础第21-29页
 第一节 半导体Γ点附近的k·p微扰法理论第21-22页
 第二节 包络函数近似(EFA)第22-25页
 第三节 拓扑绝缘体材料的理论模型第25-29页
第三章 拓扑量子阱的能谱特性研究第29-35页
 第一节 常规半导体量子阱第29-31页
 第二节 拓扑量子阱第31-34页
 第三节 小结第34-35页
第四章 拓扑量子点的能谱特性研究第35-39页
 第一节 方形拓扑量子点的特性研究第35-37页
 第二节 盘状拓扑量子点的特性研究第37-38页
 第三节 小结第38-39页
第五章 磁性拓扑量子点的自旋特性研究第39-49页
 第一节 磁场下盘状HgTe量子点的特性第39-40页
 第二节 稀磁拓扑量子点的特性第40-47页
     ·掺Mn~(2+)离子盘状拓扑量子点的自旋特性第41-44页
     ·磁场下掺杂磁离子的(Hg_(1-x)Mn_xTe)拓扑量子点的自旋特性第44-46页
     ·掺入极化Mn离子盘状拓扑量子点的特性第46-47页
 第三节 小结第47-49页
第六章 结论第49-51页
参考文献第51-59页
攻读学位期间承担的科研任务与主要成果第59-61页
致谢第61-63页
个人简历第63-65页

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