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MgZnO薄膜场效应晶体管的制备及性能研究

摘要第1-5页
Abstract第5-10页
第1章 绪论第10-24页
   ·引言第10-11页
   ·薄膜晶体管的发展历程第11-13页
   ·薄膜晶体管在液晶显示器(LCD)的应用第13-14页
   ·ZnO基薄膜的特性第14-16页
     ·ZnO薄膜第14-15页
     ·MgZnO薄膜第15-16页
   ·ZnO基薄膜晶体管的研究进展第16-19页
     ·ZnO-TFT第16-18页
     ·MgZnO-TFT第18-19页
   ·薄膜晶体管结构、原理及性能指标第19-23页
     ·薄膜晶体管的主要结构第19-20页
     ·薄膜晶体管的原理第20-21页
     ·薄膜晶体管的主要性能指标第21-23页
   ·论文选题依据及主要研究内容第23-24页
     ·论文选题依据第23页
     ·论文主要研究内容第23-24页
第2章 实验制备方法、工艺及样品表征第24-32页
   ·TFT结构简介及制备工艺第24-28页
     ·TFT的结构简介第24页
     ·有源层的制备-脉冲激光沉积(PLD)第24-27页
     ·源漏电极的制备-电阻热蒸发法第27-28页
   ·有源层薄膜的表征方法第28-32页
     ·X射线衍射仪 (XRD)第28页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第28-29页
     ·紫外-可见分光光度计(UV-Vis)第29-30页
     ·表面轮廓仪(台阶仪)第30页
     ·光致发光光谱(PL)第30-32页
第3章 MgZnO薄膜的制备及性能表征第32-55页
   ·靶材及衬底的选择和薄膜制备过程第32-33页
     ·靶材及衬底的选择第32页
     ·薄膜制备过程第32-33页
   ·氧气压强对MgZnO薄膜性能的影响第33-40页
     ·氧气压强对MgZn O薄膜晶体结构的影响第34-36页
     ·氧气压强对MgZn O薄膜形貌的影响第36-37页
     ·氧气压强对MgZn O薄膜透射率的影响第37-39页
     ·氧气压强对MgZn O薄膜光致发光性能的影响第39-40页
   ·氧气流量对MgZnO薄膜性能的影响第40-44页
     ·氧气流量对MgZn O薄膜晶体结构的影响第40-42页
     ·氧气流量对MgZn O薄膜透射率的影响第42-43页
     ·氧气流量对MgZn O薄膜光致发光性能的影响第43-44页
   ·衬底温度对MgZnO薄膜性能的影响第44-49页
     ·衬底温度对MgZn O薄膜晶体结构的影响第44-46页
     ·衬底温度对MgZn O薄膜表面形貌的影响第46-47页
     ·衬底温度对MgZn O薄膜透射率的影响第47-48页
     ·衬底温度对MgZn O薄膜光致发光性能的影响第48-49页
   ·MgO缓冲层对于Mg ZnO薄膜性能的影响第49-53页
     ·不同温度的MgO缓冲层对于MgZnO薄膜性质的影响 40第49-51页
     ·同一条件不同沉积时间的MgO缓冲层对MgZn O薄膜性能的影响第51-53页
   ·本章小结第53-55页
第4章 MgZnO-TFT的制备及其性能分析第55-67页
   ·MgZnO-TFT的制备及测试第55-57页
     ·样品的清洗第55页
     ·MgZnO有源层的沉积第55页
     ·源漏电极的沉积第55-56页
     ·TFT的测试系统第56-57页
   ·氧气压强对MgZnO-TFT电学性能的影响第57-60页
   ·衬底温度对MgZnO-TFT电学性能的影响第60-63页
   ·氮气退火对MgZnO-TFT电学性能的影响第63-66页
   ·本章小结第66-67页
第5章 MgZnO-TFT的稳定性研究第67-76页
   ·MgZnO-TFT和ZnO-TFT光照稳定性的对比分析第67-72页
     ·MgZnO薄膜和ZnO薄膜的基本性质分析第67-69页
     ·MgZnO-TFT和ZnO-TFT的光照稳定性分析第69-72页
   ·MgZnO-TFT的栅偏压稳定性分析第72-74页
   ·本章小结第74-76页
第6章 结论与展望第76-78页
   ·结论第76-77页
   ·展望第77-78页
参考文献第78-83页
致谢第83-84页
攻读硕士学位期间参与的科研项目与科研成果第84-85页

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