| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-31页 |
| ·ZnO的基本结构与性质 | 第12-20页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第12-14页 |
| ·ZnO的能带结构 | 第14-15页 |
| ·ZnO的光学性质 | 第15-20页 |
| ·ZnCdO合金薄膜及其异质结构的研究 | 第20-29页 |
| ·能带工程 | 第20-21页 |
| ·ZnCdO合金薄膜的研究现状 | 第21-25页 |
| ·ZnCdO异质结合金器件的研究现状 | 第25-29页 |
| ·论文研究的意义与研究内容 | 第29-31页 |
| 第2章 薄膜的制备及表征方法 | 第31-41页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD） | 第31-34页 |
| ·PLD的工作原理 | 第31-32页 |
| ·PLD设备简介 | 第32-34页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第34-39页 |
| ·X射线衍射仪（XRD） | 第34-35页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第35-36页 |
| ·表面轮廓扫描仪（台阶仪） | 第36页 |
| ·紫外-可见光透射光谱（UV-VIS） | 第36-37页 |
| ·光致发光（PL） | 第37-38页 |
| ·拉曼光谱仪（RAMAN） | 第38页 |
| ·X射线光电子能谱仪（XPS） | 第38-39页 |
| ·薄膜制备工艺 | 第39-41页 |
| ·靶材的选择 | 第39页 |
| ·衬底的选择及预处理 | 第39-40页 |
| ·实验过程 | 第40-41页 |
| 第3章 ZnCdO薄膜的制备及其性能表征 | 第41-63页 |
| ·衬底温度对ZnCdO薄膜性能的影响 | 第41-48页 |
| ·ZnCdO薄膜的制备 | 第41-42页 |
| ·衬底温度对ZnCdO薄膜晶体结构的影响分析 | 第42-43页 |
| ·衬底温度对ZnCdO薄膜表面形貌及生长速率的影响分析 | 第43-45页 |
| ·衬底温度对 ZnCdO 薄膜光学特性的影响分析 | 第45-48页 |
| ·氧气压强对ZnCdO薄膜性能的影响 | 第48-56页 |
| ·ZnCdO薄膜的制备 | 第48-49页 |
| ·氧气压强对ZnCdO薄膜晶体结构的影响分析 | 第49-51页 |
| ·氧气压强对ZnCdO薄膜表面形貌及生长速率的影响分析 | 第51-52页 |
| ·氧气压强对 ZnCdO 薄膜成分的影响分析 | 第52-54页 |
| ·氧气压强对ZnCdO薄膜光学特性的影响分析 | 第54-56页 |
| ·基靶间距对ZnCdO薄膜性能的影响 | 第56-61页 |
| ·ZnCdO薄膜的制备 | 第57页 |
| ·基靶间距对ZnCdO薄膜晶体结构的影响分析 | 第57-58页 |
| ·基靶间距对 ZnCdO 薄膜表面形貌及生长速率的影响分析 | 第58-59页 |
| ·基靶间距对 ZnCdO 薄膜发光特性的影响分析 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 第4章 ZnCdO薄膜发光机理研究 | 第63-79页 |
| ·氧气压强对ZnCdO薄膜光致发光（PL）性能的影响分析 | 第63-72页 |
| ·变温光致发光 | 第63-72页 |
| ·氧气压强对ZnCdO薄膜成分的影响分析 | 第72-75页 |
| ·氧气压强对ZnCdO薄膜拉曼散射的影响分析 | 第75-77页 |
| ·本章小结 | 第77-79页 |
| 第5章 ZnO/ZnCdO异质结构的制备及发光性能的研究 | 第79-94页 |
| ·前期探索性实验工作 | 第79-84页 |
| ·ZnO/ZnCdO单异质结构样品的制备 | 第79-80页 |
| ·ZnO/ZnCdO单异质结构的性能表征 | 第80-83页 |
| ·发光机理分析 | 第83-84页 |
| ·ZnO/ZnCdO异质结构的制备及其发光性能的研究 | 第84-92页 |
| ·Zn O缓冲层对ZnO/ZnCdO异质结构性能的影响 | 第84-88页 |
| ·ZnO/ZnCdO双异质结构的制备及性能研究 | 第88-92页 |
| ·本章小结 | 第92-94页 |
| 第6章 结论与展望 | 第94-98页 |
| ·结论 | 第94-97页 |
| ·展望 | 第97-98页 |
| 参考文献 | 第98-104页 |
| 致谢 | 第104-105页 |
| 攻读硕士学位期间参与的科研项目与研究成果 | 第105-106页 |
