| 致谢 | 第1-4页 |
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| ·选题背景 | 第10-11页 |
| ·K9 光学玻璃工件抛光方法简介 | 第11-13页 |
| ·传统抛光技术 | 第11-12页 |
| ·国内外光学玻璃抛光技术发展情况 | 第12-13页 |
| ·抛光液研究现状 | 第13-15页 |
| ·抛光液概述 | 第13-14页 |
| ·抛光液发展现状 | 第14-15页 |
| ·课题研究意义 | 第15页 |
| ·课题来源及主要内容 | 第15-17页 |
| ·课题来源 | 第15页 |
| ·课题主要内容 | 第15-17页 |
| 第2章 抛光液作用机理及模型 | 第17-25页 |
| ·抛光液机机械作用机机理研究模模型 | 第17-22页 |
| ·接触力学理论建模 | 第17-20页 |
| ·流体力学理论建模 | 第20-21页 |
| ·弹性力学理论建模 | 第21-22页 |
| ·抛光液化学作用机理研究模型 | 第22-24页 |
| ·化学反应理论建模 | 第22-23页 |
| ·表面双电层理论建模 | 第23-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第3章 单分散氧化铈颗粒抛光K9 光学玻璃模型建立及仿真研究 | 第25-41页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·ANSYS/LS-DYNA概述 | 第25-29页 |
| ·ANSYS/LS-DYNA简介 | 第25-26页 |
| ·SPH算法 | 第26-29页 |
| ·FEM/SPH模型建立 | 第29-32页 |
| ·磨料工件FEM/SPH耦合模型 | 第29-30页 |
| ·FEM/SPH耦合模型条件设置 | 第30-32页 |
| ·LS-DYNA仿真结果及分析 | 第32-36页 |
| ·磨料粒径尺寸对表面粗糙度的影响 | 第32-34页 |
| ·压入深度对表面粗糙度的影响 | 第34-36页 |
| ·模拟表面粗糙度模型建立 | 第36-39页 |
| ·单元表面粗糙度数值模型 | 第37-39页 |
| ·整体表面粗糙度数值模型 | 第39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 抛光液分散性实验研究 | 第41-55页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·抛光液分散机理 | 第41-43页 |
| ·静电稳定机制 | 第41-42页 |
| ·空间位阻稳定机制 | 第42-43页 |
| ·抛光液分散性评估研究 | 第43-45页 |
| ·常用评估方法 | 第43-44页 |
| ·图像灰度值处理评估法 | 第44-45页 |
| ·抛光液分散性实验 | 第45-54页 |
| ·抛光液配制准备 | 第45-46页 |
| ·六偏磷酸钠用量对分散性影响 | 第46-48页 |
| ·六偏磷酸钠分散剂抛光液p H值对分散性影响 | 第48-50页 |
| ·阿拉伯树胶用量对分散性影响 | 第50-52页 |
| ·阿拉伯树胶分散剂抛光液p H值对分散性影响 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第5章K9 光学玻璃抛光实验研究 | 第55-68页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·实验条件准备 | 第55-57页 |
| ·实验设备及仪器 | 第55-57页 |
| ·表面粗糙度检测方法 | 第57页 |
| ·单颗粒磨料抛光K9 光学玻璃验证实验 | 第57-61页 |
| ·磨料粒径尺寸对表面粗糙度的影响 | 第58-59页 |
| ·磨料压入深度对表面粗糙度的影响 | 第59-61页 |
| ·抛光液分散性对表面粗糙度的抛光实验 | 第61-67页 |
| ·六偏磷酸钠不同用量抛光液抛光实验 | 第61-62页 |
| ·六偏磷酸钠不同p H值抛光液抛光实验 | 第62-64页 |
| ·阿拉伯树胶不同用量抛光液抛光实验 | 第64-65页 |
| ·阿拉伯树胶不同p H值抛光液抛光实验 | 第65-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第6章 总结与展望 | 第68-70页 |
| ·全文总结 | 第68-69页 |
| ·研究展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第74-7页 |