| 作者简介 | 第1-8页 |
| 摘要 | 第8-11页 |
| ABSTRACT | 第11-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-38页 |
| §1.1 选题背景及研究意义 | 第17页 |
| §1.2 原子光谱中的进样技术 | 第17-29页 |
| ·雾化进样技术 | 第18页 |
| ·电热蒸发进样技术 | 第18-19页 |
| ·蒸气发生进样技术 | 第19-29页 |
| §1.3 介质阻挡放电在原子光谱中的应用 | 第29-37页 |
| ·介质阻挡放电的简介 | 第29-30页 |
| ·DBD在原子吸收光谱中的应用 | 第30-32页 |
| ·DBD在原子荧光光谱中的应用 | 第32-34页 |
| ·DBD在原子发射光谱中的应用 | 第34-37页 |
| §1.4 论文的研究内容 | 第37-38页 |
| 第二章 介质阻挡放电诱导的蒸发进样技术及其在汞的测定中的应用 | 第38-47页 |
| §2.1 前言 | 第38-39页 |
| §2.2 实验部分 | 第39-41页 |
| ·仪器 | 第39页 |
| ·DBD-PIV装置 | 第39-40页 |
| ·试剂 | 第40页 |
| ·样品 | 第40-41页 |
| §2.3 结果与讨论 | 第41-46页 |
| ·可行性研究 | 第41-42页 |
| ·实验条件优化 | 第42-44页 |
| ·共存离子的干扰 | 第44-45页 |
| ·分析特性 | 第45页 |
| ·样品分析 | 第45-46页 |
| §2.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第三章 等离子体射流解吸附/原子化原子荧光光谱与薄层色谱联用测定汞的形态 | 第47-58页 |
| §3.1 前言 | 第47-48页 |
| §3.2 实验部分 | 第48-50页 |
| ·仪器 | 第48-49页 |
| ·TLC分离汞 | 第49页 |
| ·试剂 | 第49-50页 |
| §3.3 结果与讨论 | 第50-57页 |
| ·等离子体射流的解吸附/原子化行为研究 | 第50-52页 |
| ·TLC-PJDA-AFS用于汞的形态分析 | 第52页 |
| ·条件优化 | 第52-56页 |
| ·分析特性 | 第56-57页 |
| ·样品分析 | 第57页 |
| §3.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 基于介质阻挡放电低温等离子体原子化器的非色谱汞形态分析方法研究 | 第58-69页 |
| §4.1 前言 | 第58-59页 |
| §4.2 实验部分 | 第59-62页 |
| ·仪器 | 第59-60页 |
| ·分析程序 | 第60-61页 |
| ·试剂 | 第61页 |
| ·样品 | 第61页 |
| ·样品处理 | 第61-62页 |
| §4.3 结果与讨论 | 第62-68页 |
| ·甲基汞与Hg~(2+)在DBD中的原子化行为 | 第62-63页 |
| ·无机汞与甲基汞的形态分析 | 第63-64页 |
| ·条件优化 | 第64-67页 |
| ·分析特性 | 第67-68页 |
| ·样品分析 | 第68页 |
| §4.4 本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 高效的等离子体电化学蒸气发生方法测定镉 | 第69-81页 |
| §5.1 前言 | 第69-70页 |
| §5.2 实验部分 | 第70-72页 |
| ·仪器及装置 | 第70-71页 |
| ·分析流程 | 第71页 |
| ·试剂 | 第71页 |
| ·样品 | 第71-72页 |
| ·样品制备 | 第72页 |
| §5.3 结果与讨论 | 第72-80页 |
| ·镉的蒸气发生 | 第72-74页 |
| ·实验条件的优化 | 第74-77页 |
| ·共存离子的干扰 | 第77-78页 |
| ·镉的蒸气发生效率的对比 | 第78-79页 |
| ·蒸气发生机理初探 | 第79-80页 |
| ·分析特性 | 第80页 |
| ·样品分析 | 第80页 |
| §5.4 本章小结 | 第80-81页 |
| 第六章 结论 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-98页 |
