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面向单片光电子集成的新型材料系理论研究与异变外延生长实验

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-10页
第一章 绪论第10-16页
   ·研究背景与意义第10-12页
   ·论文的结构安排第12-14页
 参考文献第14-16页
第二章 第一性原理的理论基础与计算方法第16-35页
   ·引言第16-17页
   ·绝热近似与Hartree-Fock近似第17-20页
   ·密度泛函理论与实现机制第20-30页
   ·CASTEP程序包第30-32页
   ·本章小结第32-33页
 参考文献第33-35页
第三章 三元BGaAs合金的第一性原理计算第35-49页
   ·引言第35-37页
   ·BGaAs的结构性质第37-39页
   ·BGaAs的电子结构第39-41页
   ·BGaAs的热力学性质第41-43页
   ·BGaAs的光学性质第43-46页
   ·本章小结第46-47页
 参考文献第47-49页
第四章 GaAs基BInGaAs与BGaAsSb合金的理论研究第49-66页
   ·引言第49-50页
   ·BInGaAs的基本性质第50-57页
     ·BInGaAs的结构性质第50-53页
     ·BInGaAs的电子结构第53-55页
     ·BInGaAs的光学性质第55-57页
   ·BGaAsSb的基本性质第57-63页
     ·BGaAsSb的结构性质第57-60页
     ·BGaAsSb的能带与光学性质第60-63页
   ·本章小结第63-64页
 参考文献第64-66页
第五章 稀氮GaPN合金的第一性原理计算第66-77页
   ·引言第66-68页
   ·GaPN的结构性质第68-72页
   ·GaPN的电子结构第72-75页
   ·本章小结第75-76页
 参考文献第76-77页
第六章 含Bi三元合金的理论研究第77-87页
   ·引言第77页
   ·GaNBi的性质研究第77-83页
     ·GaNBi的电子结构第77-79页
     ·GaNBi的光学性质第79-83页
   ·InPBi的性质研究第83-85页
   ·本章小结第85-86页
 参考文献第86-87页
第七章 基于低温缓冲层的InP/GaAs异变外延生长第87-103页
   ·引言第87-89页
   ·缓冲层法InP/GaAs的异变外延生长第89-100页
     ·晶体生长与表征技术第89-91页
     ·低温缓冲层法InP/GaAs的异变外延生长第91-94页
     ·组分渐变缓冲层法InP/GaAs的异变外延生长第94-100页
   ·本章小结第100-101页
 参考文献第101-103页
第八章 总结与展望第103-105页
缩略语第105-106页
附录 攻读博士学位期间发表的学术论文第106-107页
致谢第107页

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