| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-38页 |
| ·氮化锌薄膜的研究 | 第10-21页 |
| ·概述 | 第10页 |
| ·氮化物薄膜的研究现状 | 第10-16页 |
| ·GaN | 第13-14页 |
| ·AlN | 第14-15页 |
| ·InN | 第15-16页 |
| ·氮化锌薄膜的研究现状 | 第16-21页 |
| ·AZO/Cu/AZO 多层透明导电薄膜的研究 | 第21-31页 |
| ·透明导电薄膜的性质与种类 | 第21页 |
| ·氧化物透明导电薄膜的研究现状 | 第21-25页 |
| ·氧化锌（ZnO）掺杂体系薄膜 | 第21-23页 |
| ·三氧化二铟（In_0_3）掺杂体系薄膜 | 第23-24页 |
| ·二氧化锡（Sn0_2）掺杂体系薄膜 | 第24-25页 |
| ·多元共参杂薄膜的研究 | 第25页 |
| ·氧化物/金属/氧化物多层结构透明导电薄膜的研究现状 | 第25-30页 |
| ·氧化物/金属/氧化物多层结构透明导电薄膜的应用 | 第30-31页 |
| ·薄膜的制备技术 | 第31-36页 |
| ·真空蒸发镀膜 | 第31-32页 |
| ·溅射镀膜 | 第32-33页 |
| ·离子成膜技术 | 第33-34页 |
| ·离子镀成膜 | 第33页 |
| ·离子束成膜 | 第33-34页 |
| ·化学气相沉积 | 第34页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第34-35页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第35页 |
| ·喷涂热分解法 | 第35-36页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第36-38页 |
| 第二章 薄膜制备及表征方法 | 第38-58页 |
| ·制备方法与原理 | 第38-47页 |
| ·磁控溅射的基本原理 | 第38-44页 |
| ·直流溅射 | 第38-43页 |
| ·射频磁控溅射 | 第43-44页 |
| ·离子束溅射 | 第44-45页 |
| ·离子束溅射的基本原理 | 第44页 |
| ·离子束溅射的特点 | 第44-45页 |
| ·MIS-560B 磁控溅射与离子束溅射联合设备 | 第45-47页 |
| ·表征方法及原理 | 第47-57页 |
| ·薄膜相结构及成分分析 | 第47-49页 |
| ·薄膜相结构分析 | 第47-48页 |
| ·薄膜成分分析（X-射线光电子能谱（XPS）） | 第48-49页 |
| ·薄膜形貌分析 | 第49-51页 |
| ·薄膜光学性质测量 | 第51-54页 |
| ·薄膜电学性质测量 | 第54-56页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第56-57页 |
| ·小结 | 第57-58页 |
| 第三章 氮化锌薄膜制备与特性研究 | 第58-88页 |
| ·氮化锌薄膜的制备 | 第58-60页 |
| ·氮分压对氮化锌薄膜性质的影响 | 第60-68页 |
| ·氮分压对氮化锌薄膜结构的影响 | 第60-65页 |
| ·氮分压对光学性质的影响 | 第65-68页 |
| ·小结 | 第68页 |
| ·溅射功率对薄膜特性的影响 | 第68-75页 |
| ·溅射功率对Zn_3N_2薄膜结构影响 | 第69-71页 |
| ·溅射功率对电学性质的影响 | 第71-72页 |
| ·溅射功率对Zn_3N_2薄膜光学性质的影响 | 第72-74页 |
| ·小结 | 第74-75页 |
| ·溅射工作气压对氮化锌薄膜性质的影响 | 第75-80页 |
| ·工作气压对结构性质的影响 | 第75-78页 |
| ·工作气压对电学性质的影响 | 第78-79页 |
| ·工作气压对光学性质的影响 | 第79页 |
| ·小结 | 第79-80页 |
| ·衬底温度对氮化锌薄膜性质的影响 | 第80-84页 |
| ·衬底温度与氮化锌薄膜生长速度的关系 | 第80-81页 |
| ·衬底温度对氮化锌结构性质的影响 | 第81页 |
| ·衬底温度对电学性质的影响 | 第81-83页 |
| ·衬底温度对光学性质的影响 | 第83页 |
| ·小结 | 第83-84页 |
| ·玻璃/Zn_3N_2/AZO 多层结构薄膜的特性 | 第84-88页 |
| ·玻璃/Zn_3N_2/AZO 多层结构薄膜结构特性 | 第84-85页 |
| ·玻璃/Zn_3N_2/AZO 多层结构薄膜光学特性 | 第85-86页 |
| ·玻璃/Zn_3N_2/AZO 多层结构薄膜电学特性 | 第86-87页 |
| ·小结 | 第87-88页 |
| 第四章 AZO/Cu/AZO 多层薄膜的研究 | 第88-121页 |
| ·样品制备 | 第89-91页 |
| ·多层薄膜的光电理论 | 第91-101页 |
| ·多层薄膜的电学特性 | 第91-95页 |
| ·多层薄膜的光学特性 | 第95-101页 |
| ·金属薄膜的光学特性 | 第95-97页 |
| ·多层膜的光学特性 | 第97-101页 |
| ·AZO 厚度对AZO/Cu/AZO 多层薄膜特性的影响 | 第101-108页 |
| ·AZO 厚度对AZO/Cu/AZO 多层薄膜结构的影响 | 第101-105页 |
| ·AZO 厚度对AZO/Cu/AZO 多层薄膜光学和电学特性的影响 | 第105-108页 |
| ·Cu 层厚度对AZO/Cu/AZO 多层薄膜特性的影响 | 第108-115页 |
| ·Cu 层厚度对AZO/Cu/AZO 多层薄膜结构特性的影响 | 第108-113页 |
| ·Cu 层厚度对AZO/Cu/AZO 多层薄膜光电特性的影响 | 第113-115页 |
| ·衬底温度对AZO/Cu/AZO 复合薄膜特性的影响 | 第115-121页 |
| ·多层薄膜的衬底温度对薄膜的结构以及光电特性影响 | 第115-117页 |
| ·缓冲层的衬底温度对多层薄膜的结构以及光电特性的影响 | 第117-120页 |
| ·结论 | 第120-121页 |
| 第五章 结论 | 第121-125页 |
| ·主要结果 | 第121-124页 |
| ·主要创新点 | 第124-125页 |
| 参考文献 | 第125-141页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第141-142页 |
| 致谢 | 第142页 |
