铁离子注入磷化铟基稀磁半导体
| 本论文创新点 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 引言 | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-36页 |
| ·磁性基本知识 | 第11-19页 |
| ·磁性起源和分类 | 第12-17页 |
| ·磁性材料 | 第17-19页 |
| ·自旋电子学 | 第19-23页 |
| ·自旋电子学简介 | 第20-21页 |
| ·自旋电子学研究和发展历史 | 第21-23页 |
| ·稀磁半导体研究进展 | 第23-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第二章 离子注入技术和离子源的改进 | 第36-54页 |
| ·现代离子注入技术简介 | 第36-44页 |
| ·离子注入机的工作原理 | 第38-39页 |
| ·离子注入技术的独特优势 | 第39页 |
| ·离子注入技术在工业领域的应用 | 第39-41页 |
| ·离子注入技术的发展趋势 | 第41-43页 |
| ·离子束的其他应用 | 第43-44页 |
| ·离子源的分类和改进 | 第44-53页 |
| ·高频离子源 | 第45-46页 |
| ·弧放电离子源 | 第46页 |
| ·潘宁离子源 | 第46-48页 |
| ·双等离子体离子源 | 第48-49页 |
| ·中空阴极离子源 | 第49-53页 |
| ·负离子源 | 第53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第三章 表征测量实验仪器及其原理 | 第54-72页 |
| ·主要测量手段仪器及其原理 | 第54-61页 |
| ·超导量子干涉仪 | 第54-55页 |
| ·霍尔效应测试仪 | 第55-56页 |
| ·光致发光谱 | 第56-58页 |
| ·原子力显微镜 | 第58-60页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第60-61页 |
| ·其他辅助测量手段仪器及其原理 | 第61-71页 |
| ·X射线衍射 | 第61-63页 |
| ·拉曼光谱 | 第63-65页 |
| ·穆斯堡尔谱 | 第65-69页 |
| ·卢瑟福背散射/沟道谱 | 第69-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第四章 铁离子注入制备磷化铟基稀磁半导体 | 第72-107页 |
| ·离子注入样品制备及后续退火处理 | 第73-75页 |
| ·晶体结构及物相性质 | 第75-78页 |
| ·X射线衍射&摇摆曲线实验及结果分析 | 第75-77页 |
| ·拉曼光谱实验及结果分析 | 第77-78页 |
| ·光学性质及杂质缺陷相关信息 | 第78-84页 |
| ·光致发光实验及结果分析 | 第79-81页 |
| ·卢瑟福背散射/沟道实验及结果分析 | 第81-83页 |
| ·穆斯堡尔谱实验及结果分析 | 第83-84页 |
| ·磁学及电学性质 | 第84-92页 |
| ·超导量子干涉器件实验及结果分析 | 第84-90页 |
| ·霍尔效应实验及结果分析 | 第90-92页 |
| ·表面形貌及元素价态性质 | 第92-99页 |
| ·原子力显微镜和磁力显微镜实验结果及分析 | 第92-95页 |
| ·X射线光电子能谱实验结果及分析 | 第95-99页 |
| ·磁性的来源机制及理论模型 | 第99-106页 |
| ·本章小结 | 第106-107页 |
| 第五章 全文总结 | 第107-108页 |
| 参考文献 | 第108-125页 |
| 攻读博士学位期间发表文章/申请专利 | 第125-126页 |
| 致谢 | 第126页 |
