| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| ·化学修饰电极概述 | 第11-15页 |
| ·化学修饰电极发展历程 | 第11-12页 |
| ·化学修饰电极制备及类型 | 第12-13页 |
| ·化学修饰电极的应用 | 第13-15页 |
| ·三维有序大孔材料研究进展 | 第15-19页 |
| ·三维有序大孔材料简介 | 第15-16页 |
| ·三维有序大孔材料研究进展 | 第16-18页 |
| ·三维有序大孔材料在电化学中应用展望 | 第18-19页 |
| ·乙炔黑复合膜修饰电极研究进展 | 第19页 |
| ·论文选题背景、创新点和主要工作 | 第19-23页 |
| 第二章 三维有序多孔 L-半胱氨酸氧化膜修饰电极的制备及测定对氯苯酚研究 | 第23-37页 |
| ·前言 | 第23-24页 |
| ·实验部分 | 第24-26页 |
| ·试剂及仪器 | 第24页 |
| ·单分散聚苯乙烯球的制备 | 第24页 |
| ·模板的自组装 | 第24-25页 |
| ·修饰电极的制备 | 第25页 |
| ·分析程序 | 第25-26页 |
| ·结果与讨论 | 第26-36页 |
| ·3DOM-LCO/GCE 形成机理 | 第26-27页 |
| ·K_3[Fe(CN)_6]探针表征结果 | 第27-28页 |
| ·对氯苯酚的电化学行为研究 | 第28-30页 |
| ·扫描速度的影响 | 第30-31页 |
| ·支持电解质及 pH 值的选择 | 第31-32页 |
| ·富集电位、时间的影响 | 第32-33页 |
| ·重现性及稳定性 | 第33页 |
| ·线性范围和检出限 | 第33-34页 |
| ·干扰实验 | 第34-35页 |
| ·实际应用 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 三维有序多孔 L-半胱氨酸氧化膜修饰电极测定对氨基苯酚的研究 | 第37-45页 |
| ·前言 | 第37页 |
| ·实验部分 | 第37页 |
| ·仪器与试剂 | 第37页 |
| ·修饰电极的制备 | 第37页 |
| ·结果与讨论 | 第37-44页 |
| ·对氨基苯酚的电化学行为研究 | 第37-38页 |
| ·支持电解质的选择 | 第38-39页 |
| ·扫描速度的影响 | 第39-40页 |
| ·线性范围和检测限 | 第40-42页 |
| ·重现性和稳定性 | 第42-43页 |
| ·干扰实验 | 第43页 |
| ·增敏效果探讨 | 第43-44页 |
| ·实际应用 | 第44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 乙炔黑/壳聚糖复合薄膜修饰电极对日落黄的测定研究 | 第45-57页 |
| ·前言 | 第45页 |
| ·实验部分 | 第45-46页 |
| ·仪器与试剂 | 第45-46页 |
| ·修饰电极的制备 | 第46页 |
| ·实验方法 | 第46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-55页 |
| ·AB-CTS 膜的表征 | 第46-48页 |
| ·日落黄的电化学行为研究 | 第48-49页 |
| ·支持电解质及 pH 值的影响 | 第49-50页 |
| ·氧化机理研究 | 第50-52页 |
| ·修饰剂用量的影响 | 第52页 |
| ·富集电位、时间的影响 | 第52-53页 |
| ·重现性、线性范围和检测限 | 第53-54页 |
| ·干扰实验 | 第54页 |
| ·实际应用 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 乙炔黑复合膜修饰电极对喹啉黄的测定研究 | 第57-67页 |
| ·前言 | 第57页 |
| ·实验部分 | 第57-58页 |
| ·仪器与试剂 | 第57页 |
| ·AB-DHP/GCE 的制备 | 第57页 |
| ·实验方法 | 第57-58页 |
| ·结果与讨论 | 第58-64页 |
| ·AB-DHP 膜的表征 | 第58页 |
| ·喹啉黄的电化学行为研究 | 第58-60页 |
| ·氧化机理探讨 | 第60-61页 |
| ·支持电解质的选择 | 第61-62页 |
| ·修饰剂用量、富集电位、富集时间对电流响应的影响 | 第62-63页 |
| ·重现性、线性范围和检测限 | 第63-64页 |
| ·干扰实验 | 第64页 |
| ·实际应用 | 第64页 |
| ·本章小结 | 第64-67页 |
| 第六章 全文总结 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-79页 |
| 附录 | 第79-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
