| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·本文研究背景 | 第9页 |
| ·国内外研究进展 | 第9-15页 |
| ·AT 复合材料简介 | 第9-11页 |
| ·涂层组织结构研究 | 第11-12页 |
| ·涂层绝缘性能和残余应力研究 | 第12-15页 |
| ·本文研究意义 | 第15页 |
| ·本文研究内容 | 第15-16页 |
| 第2章 试验方案 | 第16-25页 |
| ·试验材料 | 第16-17页 |
| ·Al_2O_3粉体 | 第16-17页 |
| ·AT 复合粉体 | 第17页 |
| ·试样制备 | 第17-19页 |
| ·喷涂前预处理 | 第17-18页 |
| ·等离子喷涂设备 | 第18-19页 |
| ·喷涂参数优化 | 第19页 |
| ·粉体及涂层的表征方法 | 第19-20页 |
| ·粒度表征方法 | 第19页 |
| ·显微结构分析方法 | 第19-20页 |
| ·相组成分析方法 | 第20页 |
| ·涂层的性能测试 | 第20-23页 |
| ·孔隙率 | 第20-21页 |
| ·显微硬度 | 第21页 |
| ·结合强度 | 第21-22页 |
| ·热震性能 | 第22页 |
| ·直流耐高压击穿性能 | 第22-23页 |
| ·介电性能 | 第23页 |
| ·残余应力 | 第23页 |
| ·涂层封孔处理 | 第23-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第3章 AT/Al_2O_3复合涂层微观结构分析与封孔处理 | 第25-36页 |
| ·AT/Al_2O_3涂层形貌分析 | 第25-30页 |
| ·喷涂粉体单颗粒形貌 | 第25页 |
| ·Ni 底 AT/Al_2O_3涂层截面分析 | 第25-26页 |
| ·AT/Al_2O_3涂层中 Al_2O_3顶层形貌分析 | 第26-27页 |
| ·AT/Al_2O_3涂层中 AT 中间层截面形貌分析 | 第27-30页 |
| ·AT/Al_2O_3涂层相组成分析 | 第30-33页 |
| ·AT/Al_2O_3涂层中 Al_2O_3顶层相分析 | 第30-31页 |
| ·AT/Al_2O_3涂层中 AT 中间层相分析 | 第31-33页 |
| ·AT/Al_2O_3涂层中 Al_2O_3顶层的封孔处理 | 第33-35页 |
| ·封孔剂与封孔前处理 | 第33页 |
| ·封孔剂渗透深度 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第4章 AT/Al_2O_3复合涂层结构优化与性能 | 第36-51页 |
| ·AT 层优化 | 第36-44页 |
| ·AT 涂层结合性能 | 第36-39页 |
| ·AT 涂层物理性能 | 第39-43页 |
| ·AT 涂层抗热震性能 | 第43-44页 |
| ·AT20/Al_2O_3涂层结构优化 | 第44-48页 |
| ·涂层残余应力分析 | 第45-47页 |
| ·AT20/Al_2O_3优化涂层各层厚度确定 | 第47-48页 |
| ·AT20/Al_2O_3优化涂层的机械性能 | 第48-50页 |
| ·AT20/Al_2O_3优化涂层结合性能 | 第48-49页 |
| ·AT20/Al_2O_3优化涂层显微硬度 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第5章 AT20/Al_2O_3复合涂层绝缘性能 | 第51-64页 |
| ·Al_2O_3涂层的直流电击穿分析 | 第51-58页 |
| ·Al_2O_3涂层的电击穿机理 | 第51-54页 |
| ·影响 Al_2O_3涂层的电击穿性能因素 | 第54-57页 |
| ·封孔后 Al_2O_3涂层电击穿性能 | 第57-58页 |
| ·AT20/Al_2O_3优化涂层击穿强度 | 第58页 |
| ·AT20/Al_2O_3优化涂层的介电性能 | 第58-63页 |
| ·AT20/Al_2O_3优化涂层电阻率 | 第58-60页 |
| ·AT20/Al_2O_3优化涂层介电系数和损耗 | 第60-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 作者简介 | 第72页 |
