GZO薄膜的制备及其光电性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| ·透明导电氧化物概述 | 第9-11页 |
| ·ZnO 的结构和性质 | 第11-12页 |
| ·GZO 透明导电薄膜制备方法 | 第12-15页 |
| ·GZO 透明导电薄膜研究现状 | 第15-17页 |
| ·本课题研究目的、意义和内容 | 第17-20页 |
| 2 GZO 氧化物靶材和薄膜的制备及其测试方法 | 第20-32页 |
| ·GZO 氧化物靶材的制备 | 第20-23页 |
| ·GZO 薄膜的制备 | 第23-28页 |
| ·GZO 薄膜结构和光电性能测试方法 | 第28-32页 |
| 3 工艺参数对GZO 薄膜结构性能的影响 | 第32-50页 |
| ·溅射时间对薄膜结构性能的影响 | 第32-34页 |
| ·溅射基底温度对薄膜结构性能的影响 | 第34-37页 |
| ·溅射压强对薄膜结构性能的影响 | 第37-41页 |
| ·靶基距对薄膜结构性能的影响 | 第41-44页 |
| ·溅射功率对薄膜结构性能的影响 | 第44-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 4 工艺参数对GZO 薄膜电学性能的影响 | 第50-64页 |
| ·GZO 薄膜的电学特性 | 第50页 |
| ·溅射时间对GZO 薄膜电学性能的影响 | 第50-51页 |
| ·溅射基底温度对GZO 薄膜电学性能的影响 | 第51-53页 |
| ·溅射压强对GZO 薄膜电学性能的影响 | 第53-55页 |
| ·靶基距对GZO 薄膜电学性能的影响 | 第55-58页 |
| ·溅射功率对GZO 薄膜电学性能的影响 | 第58-61页 |
| ·本章小结 | 第61-64页 |
| 5 工艺参数对GZO 薄膜光学性能的影响 | 第64-81页 |
| ·GZO 薄膜光透过理论 | 第64-65页 |
| ·溅射时间对薄膜光学性能的影响 | 第65-67页 |
| ·溅射基底温度对薄膜光学性能的影响 | 第67-69页 |
| ·溅射压强对薄膜光学性能的影响 | 第69-72页 |
| ·靶基距对薄膜光学性能的影响 | 第72-74页 |
| ·溅射功率对薄膜光学性能的影响 | 第74-79页 |
| ·本章小结 | 第79-81页 |
| 6 结论与展望 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-89页 |
| 本人攻读硕士学位期间发表的论文 | 第89页 |
