| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1. 绪论 | 第10-25页 |
| ·TCO 薄膜概述 | 第10-13页 |
| ·ZNO 基TCO 薄膜 | 第13-18页 |
| ·IGZO 薄膜的研究进展 | 第18-19页 |
| ·薄膜的制备方法简介 | 第19-24页 |
| ·本文的研究内容及目的 | 第24-25页 |
| 2. IGZO 靶材与薄膜的制备及性能测试 | 第25-36页 |
| ·GA_20_3 和IN_20_3 粉末的制备与表征 | 第25-29页 |
| ·IGZO 靶材的制备与表征 | 第29-32页 |
| ·IGZO 薄膜的制备与表征 | 第32-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 3. IGZO 薄膜的结构与形貌特征 | 第36-48页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·溅射时间对薄膜结构与形貌的影响 | 第36-39页 |
| ·溅射功率对薄膜结构与形貌的影响 | 第39-42页 |
| ·基底温度对薄膜结构与形貌的影响 | 第42-46页 |
| ·小结 | 第46-48页 |
| 4. IGZO 薄膜的电学性能 | 第48-60页 |
| ·引言 | 第48-49页 |
| ·霍尔效应实验原理 | 第49-51页 |
| ·靶基距对IGZO 薄膜电学性能的影响 | 第51-52页 |
| ·溅射气压对IGZO 薄膜电学性能的影响 | 第52-53页 |
| ·溅射时间对IGZO 薄膜电学性能的影响 | 第53-54页 |
| ·溅射功率对IGZO 薄膜电学性能的影响 | 第54-56页 |
| ·基底温度对IGZO 薄膜电学性能的影响 | 第56-58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 5. IGZO 薄膜的光学性能 | 第60-70页 |
| ·引言 | 第60-61页 |
| ·靶基距对IGZO 薄膜光学性能的影响 | 第61-62页 |
| ·溅射气压对IGZO 薄膜光学性能的影响 | 第62-64页 |
| ·溅射时间对IGZO 薄膜光学性能的影响 | 第64-65页 |
| ·溅射功率对IGZO 薄膜光学性能的影响 | 第65-67页 |
| ·基底温度对IGZO 薄膜光学性能的影响 | 第67-69页 |
| ·小结 | 第69-70页 |
| 6. 全文总结 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-80页 |
| 附录1 攻读学位期间发表学术论文目录 | 第80页 |