| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-40页 |
| ·表面图案化阵列的构造 | 第11-18页 |
| ·水珠模板法构造有序阵列 | 第12-17页 |
| ·有机小分子的微图案的构造 | 第17-18页 |
| ·蛋白质芯片 | 第18-24页 |
| ·蛋白质芯片简介 | 第18-21页 |
| ·非标记技术手段检测蛋白质芯片 | 第21-22页 |
| ·成像型椭偏仪的基本原理及其在检测中的应用 | 第22-24页 |
| ·二维纳米材料 | 第24-32页 |
| ·二硫族过渡金属纳米片——石墨烯不在孤独 | 第24-25页 |
| ·二维材料的制备方法 | 第25-31页 |
| ·二维纳米材料的应用及展望 | 第31-32页 |
| ·石墨烯及其杂化结构的光学非线性性质 | 第32-39页 |
| ·非线性光学和光限幅 | 第32-36页 |
| ·二维碳材料的光学非线性研究进展(石墨烯的光限幅性质) | 第36-39页 |
| ·本文论文的选题思路和研究目的 | 第39-40页 |
| 第二章 实验技术和测试仪器 | 第40-47页 |
| ·成像型椭偏仪 | 第40-42页 |
| ·椭偏测量原理 | 第40-41页 |
| ·光路分析 | 第41页 |
| ·数据拟合分析 | 第41-42页 |
| ·荧光显微镜 | 第42-44页 |
| ·Z-扫描技术 | 第44-47页 |
| 第三章 基于高空间分辨成像型椭偏仪的非标记抗原-抗体识别研究 | 第47-59页 |
| ·引言 | 第47-48页 |
| ·实验部分 | 第48-51页 |
| ·试剂 | 第48页 |
| ·硅基底的处理 | 第48-49页 |
| ·微接触印刷(μCP)简介 | 第49-50页 |
| ·样品表征 | 第50-51页 |
| ·成像型椭偏的基本原理及数据分析 | 第51-52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 有序二元复合荧光阵列的制备 | 第59-69页 |
| ·引言 | 第59-60页 |
| ·实验部分 | 第60-62页 |
| ·实验材料 | 第60-61页 |
| ·实验方法 | 第61页 |
| ·巯基乙酸修饰CdTe量子点的合成 | 第61页 |
| ·半胱氨酸修饰CdTe纳米晶体的合成 | 第61页 |
| ·仪器表征 | 第61-62页 |
| ·构造有机-无机二元微阵列的实验过程 | 第62-63页 |
| ·自组装单分子膜(SAMs)图案化金基底的制备 | 第62-63页 |
| ·有序环状TOPV阵列的制备 | 第63页 |
| ·TOPV/CdTe NCs二元阵列的制备 | 第63页 |
| ·实验结果与讨论 | 第63-68页 |
| ·水珠模板对TOPV组装的研究 | 第64-65页 |
| ·浓度对TOPV组装的研究 | 第65-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 多色有机小分子图形在自参比气体传感中的应用 | 第69-79页 |
| ·引言 | 第69-70页 |
| ·实验部分 | 第70-71页 |
| ·实验材料 | 第70页 |
| ·实验方法 | 第70页 |
| ·表征仪器 | 第70-71页 |
| ·结果与讨论 | 第71-77页 |
| ·本章小结 | 第77-79页 |
| 第六章 MoS_2,WS_2二维纳米复合材料的制备与光限幅性能研究 | 第79-97页 |
| ·引言 | 第79-81页 |
| ·实验过程 | 第81页 |
| ·实验材料 | 第81页 |
| ·石墨烯类似物的制备方法 | 第81页 |
| ·仪器表征及Z-scan测试 | 第81页 |
| ·结果与讨论 | 第81-92页 |
| ·P3HT-MoS_2复合物的制备和表征 | 第81-85页 |
| ·噻吩数目对分散MoS_2的影响 | 第85-87页 |
| ·P3HT-MoS_2复合物荧光寿命研究 | 第87-89页 |
| ·P3HT-MoS_2复合物的非线性光学性质 | 第89-92页 |
| ·类石墨烯-纳米粒子复合材料的制备 | 第92-93页 |
| ·石墨烯材料在图形化基底的组装 | 第93-95页 |
| ·本章小结 | 第95-97页 |
| 第七章 结论与展望 | 第97-99页 |
| 参考文献 | 第99-114页 |
| 在学期间的研究成果 | 第114-115页 |
| 致谢 | 第115页 |
