摘要 | 第1-9页 |
ABSTRACT | 第9-12页 |
第一章 绪论 | 第12-24页 |
·铁电材料 | 第12-15页 |
·铁电材料的结构 | 第12-14页 |
·铁电材料的特性 | 第14-15页 |
·多铁性材料 | 第15-16页 |
·BiFeO_3铁电薄膜材料 | 第16-22页 |
·BiFeO_3的结构 | 第16-17页 |
·BiFeO_3的磁性 | 第17页 |
·BiFeO_3的电学性质 | 第17页 |
·BiFeO_3薄膜材料的主要应用 | 第17-18页 |
·BiFeO_3薄膜的研究进展 | 第18-21页 |
·BiFeO_3薄膜存在的问题 | 第21-22页 |
·BiFeO_3薄膜的沉积技术 | 第22-23页 |
·本课题的目的及意义 | 第23-24页 |
第二章 实验方案设计与研究方法 | 第24-32页 |
·实验原料及设备 | 第24-25页 |
·铁电薄膜的制备 | 第25-26页 |
·前躯体溶液的配制 | 第25页 |
·Bi_(1-x)Nd_xFeO_3薄膜的制备和热处理工艺 | 第25-26页 |
·铁电薄膜的表征手段 | 第26-32页 |
·X 射线衍射分析 | 第26-28页 |
·同步辐射 X 射线衍射分析 | 第28页 |
·原子力显微镜 | 第28-29页 |
·铁电性能测试 | 第29-32页 |
第三章 Bi_(1-x)Nd_xFeO_3(x=0.10~0.16)薄膜的结构与压电性能研究 | 第32-39页 |
·Bi_(1-x)Nd_xFeO_3薄膜的晶体结构 | 第33-34页 |
·Bi_(1-x)Nd_xFeO_3薄膜的压电性能 | 第34-37页 |
·本章小结 | 第37-39页 |
第四章 Bi_(1-x)Nd_xFeO_3(x=0.01~0.045)薄膜的结构与电学性能研究 | 第39-54页 |
·Bi_(1-x)Nd_xFeO_3薄膜的结构分析 | 第39-40页 |
·Bi_(1-x)Nd_xFeO_3薄膜的形貌分析 | 第40-41页 |
·Bi_(1-x)Nd_xFeO_3薄膜的漏电分析 | 第41-42页 |
·Bi_(1-x)Nd_xFeO_3薄膜的电滞回线分析 | 第42-43页 |
·BiFeO_3薄膜的压电性能分析 | 第43-44页 |
·Bi_(1-x)Nd_xFeO_3薄膜的压电性能分析 | 第44-48页 |
·Bi_(0.97)Nd_(0.03)FeO_3薄膜的同步辐射 X 衍射分析 | 第48-50页 |
·Bi_(0.97)Nd_(0.03)FeO_3薄膜的微观保持性 | 第50-52页 |
·本章小结 | 第52-54页 |
第五章 预处理温度及铋过量对 Bi_(0.97)Nd_(0.03)FeO_3薄膜结构的影响 | 第54-61页 |
·预处理温度及铋过量对 Bi_(0.97)Nd_(0.03)FeO_3薄膜的结构分析 | 第54-57页 |
·预处理温度对 Bi_(0.97)Nd_(0.03)FeO_3薄膜的表面形貌的影响 | 第57-58页 |
·铋过量对 Bi_(0.97)Nd_(0.03)FeO_3薄膜的表面形貌的影响 | 第58-60页 |
·本章小结 | 第60-61页 |
第六章 结论与展望 | 第61-63页 |
·主要结论 | 第61页 |
·主要创新点 | 第61-62页 |
·工作展望 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
附录 | 第70-71页 |