| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-29页 |
| ·单分散二氧化硅 | 第10-17页 |
| ·二氧化硅的制备 | 第11-14页 |
| ·二氧化硅的应用 | 第14-17页 |
| ·核-壳结构材料概述 | 第17-23页 |
| ·核-壳结构材料的制备 | 第18-21页 |
| ·核-壳结构材料的应用 | 第21-23页 |
| ·检测与表征 | 第23-27页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第24-25页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第25-26页 |
| ·激光粒度分析 | 第26-27页 |
| ·激发和发射光谱 | 第27页 |
| ·本文的选题背景及研究内容 | 第27-29页 |
| ·课题的提出 | 第27-28页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第28-29页 |
| 第二章 单分散二氧化硅微球的制备及反应机理 | 第29-44页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·单分散SiO_2 微球的制备 | 第29-31页 |
| ·实验材料 | 第29-30页 |
| ·仪器和设备 | 第30页 |
| ·单分散SiO_2 微球的制备过程 | 第30页 |
| ·样品表征 | 第30-31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-43页 |
| ·SiO_2 微球的形成机理 | 第31-33页 |
| ·有机溶剂种类对SiO_2 粒径和形貌的影响 | 第33-36页 |
| ·硅源(TEOS)浓度变化对SiO_2 粒径和形貌的影响 | 第36-38页 |
| ·水浓度变化对SiO_2 粒径和形貌的影响 | 第38-39页 |
| ·氨水浓度变化对SiO_2 粒径和形貌的影响 | 第39-41页 |
| ·温度变化对SiO_2 粒径和形貌的影响 | 第41-43页 |
| 本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 SiO_2@Y_2O_3 核壳结构粉体的制备与研究 | 第44-50页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·核壳结构粉体SiO_2@Y_2O_3 的制备 | 第44-46页 |
| ·实验材料 | 第44-45页 |
| ·仪器和设备 | 第45页 |
| ·核-壳结构SiO_2@Y_2O_3 粉体的制备过程 | 第45-46页 |
| ·样品表征 | 第46页 |
| ·实验结果与分析 | 第46-49页 |
| ·机理分析 | 第46页 |
| ·XRD 分析 | 第46-48页 |
| ·SiO_2@Y_2O_3 的形貌分析 | 第48-49页 |
| 本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 SiO_2@YAG:Ce~(3+)核壳结构粉体的制备与研究 | 第50-58页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·核-壳结构粉体SiO_2@YAG:Ce~(3+)的制备 | 第51-53页 |
| ·实验材料 | 第51页 |
| ·仪器和设备 | 第51页 |
| ·核-壳结构SiO_2@YAG:Ce~(~(3+))粉体的制备过程 | 第51-53页 |
| ·样品表征 | 第53页 |
| ·实验结果与分析 | 第53-57页 |
| ·机理分析 | 第53页 |
| ·XRD 分析 | 第53-54页 |
| ·SiO_2@YAG:Ce~(~(3+))的形貌分析 | 第54-56页 |
| ·光谱分析 | 第56-57页 |
| 本章小结 | 第57-58页 |
| 结论与展望 | 第58-60页 |
| 1 全文总结 | 第58-59页 |
| 2 今后工作展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
