| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪言 | 第8-11页 |
| 第二章 强关联氧化物 | 第11-25页 |
| ·强关联氧化物材料 | 第11-12页 |
| ·HTSC材料的基本机理 | 第12-13页 |
| ·CMR材料的基本机理 | 第13-16页 |
| ·强关联材料的LITV效应 | 第16-22页 |
| ·LITV信号的历史及其理论研究 | 第16-18页 |
| ·各向异性Seebeck效应(温差热电势效应) | 第18-19页 |
| ·LITV效应原理及公式 | 第19-21页 |
| ·薄膜参量对感生热电势电压的影响 | 第21-22页 |
| ·强关联氧化物材料的应用 | 第22-24页 |
| ·高温超导材料的应用 | 第22-23页 |
| ·超巨磁阻材料的应用 | 第23-24页 |
| ·小结 | 第24-25页 |
| 第三章 脉冲激光沉积(PLD)薄膜技术 | 第25-31页 |
| ·PLD制备薄膜技术 | 第25页 |
| ·PLD的发展 | 第25-26页 |
| ·PLD系统的组成 | 第26-28页 |
| ·PLD的原理 | 第28-29页 |
| ·PLD的技术特点和优势 | 第29-30页 |
| ·小结 | 第30-31页 |
| 第四章 YBa_2Cu_3O_(7-δ)/La_(0.6)Pb_(0.4)MnO_3多层膜的制备 | 第31-49页 |
| ·多晶靶材的制备 | 第31-34页 |
| ·La_(0.6)Pb_(0.4)MnO_3多晶靶材的制备 | 第31-33页 |
| ·YBa_2Cu_3O_(7-δ)多晶靶材的制备 | 第33-34页 |
| ·YBa_2Cu_3O_(7-δ)/La_(0.6)Pb_(0.4)MnO_3多层膜的制备 | 第34-39页 |
| ·PLD镀膜实验基本参数 | 第34-37页 |
| ·薄膜的生长 | 第37-38页 |
| ·样品的制备 | 第38-39页 |
| ·样品的退火处理 | 第39页 |
| ·薄膜性质的测量 | 第39-48页 |
| ·XRD | 第39-42页 |
| ·HREM | 第42-44页 |
| ·R-T | 第44-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 第五章 (YBCO_M/LPMO_N)_L多层膜中的LITV效应 | 第49-59页 |
| ·LITV信号测量设备 | 第50-51页 |
| ·LAO衬底倾斜角度对多层膜的LITV信号的影响 | 第51-53页 |
| ·薄膜厚度对多层膜的LITV信号的影响 | 第53-55页 |
| ·与YBCO和LPMO单层膜的LITV信号的比较 | 第55-56页 |
| ·不同激光能量下多层膜的LITV信号 | 第56-57页 |
| ·小结 | 第57-59页 |
| 第六章 结论 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 附录: 硕士期间发表论文 | 第67页 |
