| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-23页 |
| ·太阳能电池的发展和研究现状 | 第10-11页 |
| ·多晶硅薄膜 | 第11-15页 |
| ·多晶硅薄膜概述 | 第11-12页 |
| ·多晶硅薄膜的制备方法 | 第12-15页 |
| ·非晶硅薄膜 | 第15-18页 |
| ·非晶硅薄膜的制备方法 | 第17页 |
| ·非晶硅薄膜的研究现状 | 第17-18页 |
| ·激光晶化技术的发展及应用 | 第18-22页 |
| ·激光晶化 | 第18-19页 |
| ·激光器的发展 | 第19-21页 |
| ·激光晶化过程的数值模拟 | 第21-22页 |
| ·选题意义与研究内容 | 第22-23页 |
| 2 激光晶化非晶硅薄膜及其组织结构研究 | 第23-31页 |
| ·实验材料 | 第23页 |
| ·非晶硅薄膜的制备 | 第23-25页 |
| ·石英衬底的清洗 | 第23-24页 |
| ·多功能微波ECR等离子体源全方位离子注渗系统简介 | 第24-25页 |
| ·工艺参数 | 第25页 |
| ·激光晶化工艺 | 第25-27页 |
| ·实验仪器 | 第25-27页 |
| ·工艺参数 | 第27页 |
| ·实验方法 | 第27页 |
| ·组织分析测试 | 第27-31页 |
| 3 激光晶化温度场数值模拟 | 第31-45页 |
| ·传热学基本原理 | 第31-32页 |
| ·有限元模型的建立 | 第32-36页 |
| ·单元划分 | 第32-33页 |
| ·初始条件 | 第33页 |
| ·边界条件 | 第33-34页 |
| ·激光热源 | 第34-36页 |
| ·激光晶化数值模拟模型的求解及分析 | 第36-38页 |
| ·模拟单位 | 第37页 |
| ·时间步长 | 第37页 |
| ·模拟结果的处理 | 第37-38页 |
| ·激光晶化非晶硅薄膜温度场模拟结果 | 第38-44页 |
| ·石英衬底的物理性质 | 第38-39页 |
| ·模拟结果 | 第39-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 4 不同工艺参数对光面石英衬底薄膜组织的影响 | 第45-59页 |
| ·激光功率对薄膜组织的影响 | 第45-50页 |
| ·XRD分析 | 第45-46页 |
| ·Raman光谱分析 | 第46-49页 |
| ·激光功率对晶粒大小的影响 | 第47-48页 |
| ·激光功率对结晶度的影响 | 第48-49页 |
| ·HRTEM分析 | 第49-50页 |
| ·扫描速率对薄膜组织的影响 | 第50-54页 |
| ·XRD分析 | 第50-51页 |
| ·Raman光谱分析 | 第51-54页 |
| ·扫描速率对晶粒大小的影响 | 第52-53页 |
| ·扫描速率对结晶度的影响 | 第53-54页 |
| ·离焦量对薄膜组织的影响 | 第54-58页 |
| ·XRD分析 | 第54-55页 |
| ·Raman光谱分析 | 第55-58页 |
| ·离焦量对晶粒大小的影响 | 第56-57页 |
| ·离焦量对结晶度的影响 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 5 不同工艺参数对毛面石英衬底薄膜组织的影响 | 第59-68页 |
| ·激光功率对薄膜组织的影响 | 第59-62页 |
| ·XRD分析 | 第59-60页 |
| ·Raman光谱分析 | 第60-62页 |
| ·激光功率对晶粒大小的影响 | 第60-61页 |
| ·激光功率对结晶度的影响 | 第61-62页 |
| ·扫描速率对薄膜组织的影响 | 第62-66页 |
| ·XRD分析 | 第62-63页 |
| ·Raman光谱分析 | 第63-66页 |
| ·扫描速率对晶粒大小的影响 | 第64-65页 |
| ·扫描速率对结晶度的影响 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |