微型紫外光刻系统的研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-20页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·微加工的发展现状 | 第7-9页 |
| ·光刻技术的国内外现状 | 第9-12页 |
| ·曝光技术 | 第12-18页 |
| ·光学曝光 | 第12-17页 |
| ·电子束曝光 | 第17页 |
| ·X 射线曝光 | 第17页 |
| ·离子束曝光 | 第17-18页 |
| ·本论文的研究意义和主要研究内容 | 第18-20页 |
| 2 光源的选择及其驱动电路的分析设计 | 第20-32页 |
| ·序言 | 第20页 |
| ·紫外光源的比较和选择 | 第20-24页 |
| ·汞灯 | 第20-21页 |
| ·半导体激光器(LD) | 第21-22页 |
| ·发光二极管（LED） | 第22-24页 |
| ·驱动电路的分析设计 | 第24-32页 |
| ·驱动电路的总体设计与器件选择 | 第24-25页 |
| ·电路原理分析 | 第25-26页 |
| ·驱动电路的模拟分析 | 第26-32页 |
| 3 光学耦合系统 | 第32-53页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·光纤的选择 | 第32页 |
| ·球面波与高斯光束的比较 | 第32-42页 |
| ·高斯光束 | 第33-41页 |
| ·球面波 | 第41-42页 |
| ·光学耦合系统的设计与相关计算 | 第42-53页 |
| ·系统初始结构分析 | 第43-46页 |
| ·组合镜头的初始结构设计 | 第46-49页 |
| ·组合镜头的结构优化设计 | 第49-53页 |
| 4 光束整形聚焦系统 | 第53-68页 |
| ·引言 | 第53页 |
| ·光束聚焦系统的比较和选择 | 第53-54页 |
| ·自聚焦透镜系统 | 第53-54页 |
| ·椭球面反射系统 | 第54页 |
| ·多透镜系统 | 第54页 |
| ·球面波的焦移 | 第54-58页 |
| ·球面波的轴上聚焦光强分布 | 第55-56页 |
| ·球面波的焦移 | 第56-58页 |
| ·光束聚焦系统的设计与相关计算 | 第58-68页 |
| ·系统光学性能参数的设计 | 第58-66页 |
| ·镜头结构型式设计 | 第66-68页 |
| 5 光刻系统的相关实验及结果分析 | 第68-74页 |
| ·驱动电路的实验及结果分析 | 第68-69页 |
| ·光学实验及结果分析 | 第69-74页 |
| ·LED 光源与汞灯光源对光敏的固化实验 | 第69-70页 |
| ·光纤端面加工 | 第70-72页 |
| ·光学实验结果及分析 | 第72-74页 |
| 6 结论与展望 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-78页 |
| 附录：作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第78页 |
