| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·前言 | 第10-11页 |
| ·FEPT 合金薄膜的结构及交换耦合作用 | 第11-14页 |
| ·FePt 合金薄膜的结构特点 | 第11-13页 |
| ·交换耦合作用 | 第13-14页 |
| ·改进合金薄膜的磁性能的措施 | 第14-16页 |
| ·热处理工艺 | 第14页 |
| ·添加元素 | 第14-15页 |
| ·添加缓冲层 | 第15-16页 |
| ·DY-PT 合金薄膜 | 第16-18页 |
| ·研究的目标和方向 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-23页 |
| 第二章 实验原理及方法 | 第23-34页 |
| ·磁控溅射镀膜装置及原理 | 第23-26页 |
| ·辉光放电 | 第23-24页 |
| ·磁控溅射原理 | 第24-26页 |
| ·衬底材料的选择 | 第26-27页 |
| ·选取原则 | 第26页 |
| ·硬质衬底 | 第26页 |
| ·衬底材料的处理 | 第26-27页 |
| ·实验设备操作过程 | 第27-28页 |
| ·实验原理 | 第28-33页 |
| ·X 射线衍射法 | 第28-29页 |
| ·薄膜厚度测试法 | 第29-30页 |
| ·电子探针X 射线能谱分析法(EDAX) | 第30页 |
| ·磁性能测试方法 | 第30-33页 |
| ·本章小结 | 第33页 |
| 参考文献 | 第33-34页 |
| 第三章 FEPT合金薄膜的制备、相转变及磁性能研究 | 第34-50页 |
| ·溅射基本工艺参数 | 第34-36页 |
| ·退火温度对薄膜相转变和磁性能的影响 | 第36-41页 |
| ·退火后薄膜的成份分析 | 第36-38页 |
| ·退火温度对FePt 薄膜相转变的影响 | 第38-40页 |
| ·退火温度对FePt 薄膜磁性能的影响 | 第40-41页 |
| ·PT 缓冲层厚度对FEPT 多层膜相转变和磁性能的影响 | 第41-48页 |
| ·Pt 缓冲层厚度对FePt 合金薄膜相转变的影响 | 第41-44页 |
| ·Pt 缓冲层厚度对FePt 合金薄膜磁性能的影响 | 第44-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第四章 FE_(50-0.5X)PT_(50-0.5X)DY_X(X=0,0.5,1.0,1.5,2.0)合金薄膜制备、相转变和磁性能研究 | 第50-63页 |
| ·制备基本工艺参数 | 第50-51页 |
| ·DY 对薄膜相转变的影响 | 第51-57页 |
| ·Dy 含量对薄膜相转变的影响 | 第51-55页 |
| ·退火时间对Fe_(49.25)Pt_(49.25)Dy_(1.5) 合金薄膜相转变的影响 | 第55-57页 |
| ·DY 对薄膜磁性能的影响 | 第57-61页 |
| ·Dy 含量对薄膜磁性能的影响 | 第57-59页 |
| ·退火时间对Fe_(50-0.5x)Pt_(50-0.5x)Dy_x 合金薄膜磁性能的影响 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-63页 |
| 第五章 DY-PT 合金薄膜的制备、结构及相转变研究 | 第63-71页 |
| ·样品制备基本工艺参数 | 第63-64页 |
| ·DYPT_2 合金薄膜的相转变 | 第64-67页 |
| ·DY_3PT_4 合金薄膜的相转变 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-71页 |
| 第六章 总结 | 第71-73页 |
| ·本研究的主要结论和创新点 | 第71-72页 |
| ·本研究的意义及今后的发展方向 | 第72-73页 |
| 研究生期间发表的论文 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
