外部等离子源辅助磁控溅射电特性及TiN薄膜制备研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-17页 |
| ·课题背景 | 第8页 |
| ·射频等离子源的特点及其基本原理 | 第8-9页 |
| ·射频等离子源的特点 | 第8-9页 |
| ·射频辉光放电的原理 | 第9页 |
| ·溅射沉积技术及其发展和应用 | 第9-13页 |
| ·溅射现象和典型的物理气相沉积方法 | 第9-11页 |
| ·磁控溅射的分类及目前的研究现状 | 第11-13页 |
| ·射频等离子源辅助磁控溅射 | 第13-16页 |
| ·原理 | 第13-14页 |
| ·国内外研究现状 | 第14-16页 |
| ·研究主要内容 | 第16-17页 |
| 第2章 试验原理与方法 | 第17-22页 |
| ·试验设备与原理 | 第17-18页 |
| ·试验设备 | 第17页 |
| ·原理 | 第17-18页 |
| ·试验材料及样品的准备 | 第18-19页 |
| ·试验材料 | 第18页 |
| ·样品准备 | 第18-19页 |
| ·工艺参数的确定 | 第19-20页 |
| ·分析检测方法 | 第20-21页 |
| ·XRD相结构分析 | 第20页 |
| ·SEM截面测量 | 第20页 |
| ·超显微硬度测试 | 第20页 |
| ·耐腐蚀性能测试 | 第20-21页 |
| ·摩擦学性能测试 | 第21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第3章 辅助等离子源对磁控溅射电特性的影响 | 第22-38页 |
| ·不同气体成分比下辅助等离子源对靶电压的影响 | 第22-27页 |
| ·射频辅助 | 第22-26页 |
| ·热灯丝放电辅助 | 第26-27页 |
| ·不同气压下辅助等离子源对靶电压的影响 | 第27-32页 |
| ·射频辅助 | 第27-30页 |
| ·热灯丝放电辅助 | 第30-32页 |
| ·不同靶电流下辅助等离子源对靶电压的影响 | 第32-34页 |
| ·射频辅助 | 第32-34页 |
| ·热灯丝放电辅助 | 第34页 |
| ·不同偏压下辅助等离子源对靶电压的影响 | 第34-36页 |
| ·不同距离下辅助等离子源对靶电压的影响 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 不同气压下射频辅助对TiN薄膜性能的影响 | 第38-47页 |
| ·相结构分析 | 第38-40页 |
| ·厚度分析 | 第40-41页 |
| ·硬度分析 | 第41-42页 |
| ·耐腐蚀性能分析 | 第42-44页 |
| ·摩擦学性能分析 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第5章 不同偏压下射频辅助对TiN薄膜性能的影响 | 第47-57页 |
| ·相结构分析 | 第47-49页 |
| ·厚度分析 | 第49-50页 |
| ·硬度分析 | 第50-51页 |
| ·耐腐蚀性能分析 | 第51-53页 |
| ·摩擦学性能分析 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
