退火处理对FeCoB-SiO2磁性纳米膜电磁性能的影响
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-21页 |
| ·课题的意义和目的 | 第9-10页 |
| ·国内外研究进展 | 第10-16页 |
| ·国外研究概况 | 第10-14页 |
| ·国内研究概况 | 第14-16页 |
| ·磁性纳米膜的制备 | 第16-18页 |
| ·气相沉积法 | 第17-18页 |
| ·分子束外延法 | 第18页 |
| ·溅射法 | 第18页 |
| ·磁控溅射技术及退火处理 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射技术 | 第18-19页 |
| ·退火处理 | 第19页 |
| ·本文主要研究内容 | 第19-21页 |
| 2 FeCo 基磁性纳米膜退火机制 | 第21-33页 |
| ·FeCo 基磁性膜常见退火处理 | 第21-23页 |
| ·一般退火 | 第21-22页 |
| ·真空退火 | 第22页 |
| ·气氛退火 | 第22页 |
| ·磁场退火 | 第22-23页 |
| ·应力退火 | 第23页 |
| ·退火对 FeCo 基磁性纳米膜性能的影响机制 | 第23-24页 |
| ·FeCo 基磁性纳米膜的经时变化与退火 | 第23页 |
| ·FeCo 基磁性纳米膜的内应力与退火 | 第23-24页 |
| ·FeCo 基磁性膜退火机制 | 第24-32页 |
| ·FeCo 基磁性膜磁场退火机制 | 第24-27页 |
| ·磁性合金的退火与方向成对各向异性 | 第27-31页 |
| ·磁性纳米膜的退火与微结构效应 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 3 实验方法 | 第33-41页 |
| ·实验系统及实验平台的构建 | 第33-37页 |
| ·射频磁控溅射制备FeCo 基纳米膜的系统 | 第33-34页 |
| ·真空退火炉 | 第34-36页 |
| ·测试系统 | 第36-37页 |
| ·样品制备 | 第37-38页 |
| ·退火处理 | 第38-40页 |
| ·退火步骤及样品固定 | 第38-39页 |
| ·升温控制 | 第39-40页 |
| ·保护气体的使用 | 第40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 4 实验及结果分析 | 第41-56页 |
| ·磁滞回线 | 第41-47页 |
| ·各向异性场和矫顽力 | 第47-48页 |
| ·磁谱曲线 | 第48-51页 |
| ·理想曲线及误差分析 | 第51-53页 |
| ·磁场退火 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 5 总结与展望 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
