| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-23页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·纳米材料的性能和应用 | 第8-10页 |
| ·纳米线的性质和应用 | 第10-11页 |
| ·纳米线的制备方法 | 第11-16页 |
| ·模板法 | 第11-15页 |
| ·气相法 | 第13页 |
| ·化学沉积法 | 第13页 |
| ·化学聚合 | 第13页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第13-14页 |
| ·电沉积法 | 第14-15页 |
| ·非模板法 | 第15-16页 |
| ·气相化学合成法 | 第15页 |
| ·热分解前驱体法 | 第15页 |
| ·激光溅射方法 | 第15-16页 |
| ·微乳液法 | 第16页 |
| ·多层纳米线的应用 | 第16-17页 |
| ·多层纳米线的制备与表征 | 第17-19页 |
| ·多层纳米线的制备方法 | 第17-18页 |
| ·多层纳米线的形貌分析 | 第18-19页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第18页 |
| ·透镜电子显微镜 | 第18-19页 |
| ·多层纳米线的成分分析 | 第19页 |
| ·多层纳米线的磁性能测试 | 第19页 |
| ·模板法组装纳米线阵列的研究现状 | 第19-21页 |
| ·模板-电沉积法组装磁性金属纳米线阵列的研究现状 | 第19-20页 |
| ·模板-电沉积法制备多层纳米线研究现状 | 第20-21页 |
| ·巨磁电阻材料的测量和应用 | 第21-22页 |
| ·本论文的主要工作 | 第22-23页 |
| 第二章 实验方法 | 第23-29页 |
| ·模板的制备 | 第23-24页 |
| ·仪器和试剂 | 第23页 |
| ·AAO模板的制备 | 第23-24页 |
| ·Cu、Ni单金属纳米线的制备 | 第24-26页 |
| ·仪器和试剂 | 第24-25页 |
| ·单金属纳米线的制备 | 第25-26页 |
| ·Cu、Ni单金属纳米线的形貌表征 | 第26页 |
| ·单金属纳米线磁性能的测试 | 第26页 |
| ·Cu/Ni多层纳米线的制备 | 第26-27页 |
| ·仪器和试剂 | 第26页 |
| ·多层纳米线的制备 | 第26-27页 |
| ·多层纳米线的形貌表征 | 第27页 |
| ·多层纳米线的成分分析 | 第27页 |
| ·多层纳米线的磁性能测试 | 第27页 |
| ·Cu/Ni多层纳米线巨磁电阻性能的测试 | 第27-29页 |
| 第三章 Cu/Ni多层纳米线的制备与表征 | 第29-40页 |
| ·AAO模板的形貌表征 | 第29页 |
| ·Cu、Ni单金属纳米线的制备与表征 | 第29-34页 |
| ·AAO模板孔内Cu、Ni纳米线阵列的组装过程分析 | 第29-32页 |
| ·电沉积基本原理 | 第29-30页 |
| ·电极表面的扩散过程 | 第30-31页 |
| ·影响纳米线组装的因素 | 第31-32页 |
| ·Cu、Ni单金属纳米线的形貌表征 | 第32-34页 |
| ·Cu/Ni多层纳米线阵列的制备与表征 | 第34-40页 |
| ·AAO模板孔内Cu/Ni多层纳米线阵列的组装过程分析 | 第34-35页 |
| ·Cu/Ni多层纳米线的形貌表征 | 第35-37页 |
| ·Cu/Ni纳米多层线的成分和结构表征 | 第37-40页 |
| 第四章 Cu/Ni 多层纳米线磁性能测试 | 第40-54页 |
| ·单金属Ni纳米线阵列的垂直磁记录特性 | 第40-43页 |
| ·Cu/Ni多层纳米线阵列的垂直磁记录特性 | 第43-44页 |
| ·调制波长对Cu/Ni多层线磁性能的影响 | 第44-49页 |
| ·Cu/Ni多层纳米线直径对磁性能的影响 | 第49-51页 |
| ·Cu/Ni多层纳米线的巨磁电阻效应 | 第51-54页 |
| 第五章 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |