| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-39页 |
| ·引言 | 第16-17页 |
| ·铝电解电容器简介 | 第17-23页 |
| ·铝电解电容器的性能 | 第17页 |
| ·铝电解电容器的结构特点与容量特性 | 第17-21页 |
| ·铝电解电容器的应用前景与发展状况 | 第21-23页 |
| ·铝电解电容器的市场前景与应用领域 | 第21-22页 |
| ·铝电解电容器的国内外发展现状 | 第22-23页 |
| ·铝电极箔的比容提高技术及研究进展 | 第23-31页 |
| ·铝电解电容器用电介质层 | 第23-25页 |
| ·晶型铝氧化膜制造技术及研究进展 | 第25-28页 |
| ·高介电常数复合氧化膜制造技术研究进展 | 第28-31页 |
| ·氧化膜的其它性能研究 | 第31-35页 |
| ·氧化膜的漏电流 | 第31-32页 |
| ·氧化膜的耐电压 | 第32-33页 |
| ·氧化膜的耐水合特性 | 第33-35页 |
| ·水合氧化物的形成 | 第33-34页 |
| ·耐水合处理的国内外研究现状 | 第34-35页 |
| ·本论文的选题及结构体系 | 第35-39页 |
| ·本论文的选题 | 第35-36页 |
| ·本论文的研究内容 | 第36-39页 |
| 第二章 实验方法和原理 | 第39-57页 |
| ·引言 | 第39-40页 |
| ·主要仪器设备 | 第40页 |
| ·阳极氧化过程及氧化膜基本性能测试 | 第40-44页 |
| ·氧化膜的形成过程 | 第40-42页 |
| ·铝电极箔的比容测试 | 第42-43页 |
| ·氧化膜的耐电压(V_t)测试 | 第43-44页 |
| ·氧化膜的耐水合特性测试 | 第44页 |
| ·氧化膜的I-V特性测试 | 第44-49页 |
| ·MIM结构 | 第45-46页 |
| ·MIE结构 | 第46-49页 |
| ·氧化膜的结构表征 | 第49-56页 |
| ·氧化铝膜的溶解 | 第50页 |
| ·断点测试法 | 第50-53页 |
| ·开路电位测试法 | 第53-54页 |
| ·耐受电压测试法 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第三章 腐蚀箔种类的选择及晶型铝氧化膜制造技术 | 第57-71页 |
| ·腐蚀箔种类的选择 | 第57-63页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·实验部分 | 第57-58页 |
| ·结果与讨论 | 第58-62页 |
| ·不同工艺腐蚀箔的表面及断面显微形貌 | 第58-60页 |
| ·不同工艺腐蚀箔的比容 | 第60页 |
| ·不同工艺腐蚀箔扩面倍率的理论计算 | 第60-61页 |
| ·腐蚀箔的阳极氧化过程 | 第61-62页 |
| ·不同工艺腐蚀箔的其它性能 | 第62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| ·晶型铝氧化膜制造技术 | 第63-70页 |
| ·引言 | 第63-64页 |
| ·磷酸—铬酸处理法 | 第64-65页 |
| ·优化工艺及实验结果 | 第64页 |
| ·磷酸—铬酸处理法成膜机理 | 第64-65页 |
| ·胺类溶液处理法 | 第65-69页 |
| ·实验方法 | 第65-66页 |
| ·实验结果及讨论 | 第66-69页 |
| ·经磷酸—铬酸或胺类溶液处理后γ′或γ-Al_2O_3的形成机理 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 第四章 高介电常数Al-Ti复合氧化膜研究 | 第71-101页 |
| ·引言 | 第71-72页 |
| ·工艺路线分析 | 第72-73页 |
| ·高介电常数Al-Ti复合氧化膜的形成 | 第73-78页 |
| ·Ti(SO_4)_2的水解沉积过程 | 第73-76页 |
| ·表面覆盖TiO_2膜层的铝电极箔的阳极氧化过程 | 第76-78页 |
| ·工艺参数的选择及优化 | 第78-82页 |
| ·I Ti(SO_4)_2溶液浓度的影响 | 第78-79页 |
| ·Ti(SO_4)_2溶液温度的影响 | 第79页 |
| ·Ti(SO_4)_2溶液处理时间的影响 | 第79-81页 |
| ·Ti(SO_4)_2溶液pH值的影响 | 第81页 |
| ·热处理温度的影响 | 第81-82页 |
| ·小结 | 第82页 |
| ·Al-Ti复合氧化膜的微观分析与性能表征 | 第82-87页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第82-83页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS)分析 | 第83-84页 |
| ·氧化膜的耐电压及铝电极箔的比容 | 第84-86页 |
| ·铝电极箔的抗拉强度和抗折弯性能 | 第86-87页 |
| ·Al-Ti复合氧化膜的介电行为研究 | 第87-93页 |
| ·SiO_2掺杂改善20V耐压段复合氧化膜性能的研究 | 第93-97页 |
| ·技术思路 | 第93-94页 |
| ·实验部分 | 第94页 |
| ·结果与讨论 | 第94-97页 |
| ·阳极氧化过程 | 第94-95页 |
| ·复合氧化膜的电性能 | 第95-97页 |
| ·小结 | 第97页 |
| ·铝电解电容器试制品试验及结果 | 第97-99页 |
| ·本章小结 | 第99-101页 |
| 第五章 形成高性能Al-Ti复合氧化膜的阳极氧化条件研究 | 第101-121页 |
| ·引言 | 第101-102页 |
| ·阳极氧化电流密度 | 第102-107页 |
| ·实验部分 | 第102页 |
| ·Al-Ti复合氧化膜的形成 | 第102页 |
| ·氧化膜的结构分析与电性能测试 | 第102页 |
| ·结果与讨论 | 第102-106页 |
| ·阳极氧化过程 | 第102-103页 |
| ·氧化膜的溶解行为 | 第103-104页 |
| ·不同电流密度所形成氧化膜的电性能 | 第104-106页 |
| ·小结 | 第106-107页 |
| ·阳极氧化温度 | 第107-112页 |
| ·实验部分 | 第107页 |
| ·结果与讨论 | 第107-112页 |
| ·阳极氧化过程 | 第107-109页 |
| ·阳极氧化温度对Al-Ti复合氧化膜结构的影响 | 第109-110页 |
| ·阳极氧化温度对Al-Ti复合氧化膜电性能的影响 | 第110-112页 |
| ·小结 | 第112页 |
| ·阳极氧化电压 | 第112-120页 |
| ·实验部分 | 第112页 |
| ·结果与讨论 | 第112-119页 |
| ·阳极氧化电压—时间曲线 | 第112-113页 |
| ·不同阳极氧化电压下氧化膜的结构 | 第113-115页 |
| ·不同阳极氧化电压所形成复合氧化膜的电性能 | 第115-119页 |
| ·小结 | 第119-120页 |
| ·本章小结 | 第120-121页 |
| 第六章 氧化膜的耐电压特性研究 | 第121-132页 |
| ·引言 | 第121页 |
| ·耐电压测试过程中氧化膜的生长动力学 | 第121-126页 |
| ·点缺陷模型的基本原理 | 第121-123页 |
| ·对点缺陷模型的推导 | 第123-126页 |
| ·氧化膜的耐电压测试 | 第126-131页 |
| ·腐蚀箔在耐电压测试条件下的阳极氧化 | 第126-127页 |
| ·氧化膜的耐电压测试 | 第127-129页 |
| ·耐电压测试过程中电压尖峰的理论解释 | 第129-131页 |
| ·本章小结 | 第131-132页 |
| 第七章 氧化膜的耐水合特性研究 | 第132-146页 |
| ·引言 | 第132-133页 |
| ·耐水合剂及其作用机理 | 第133-135页 |
| ·羟基羧酸类耐水合剂 | 第134页 |
| ·憎水有机涂层 | 第134页 |
| ·以磷为基础的耐水合剂 | 第134-135页 |
| ·ATMP提高铝阳极氧化膜耐水合性的研究 | 第135-140页 |
| ·实验部分 | 第135-136页 |
| ·阳极氧化膜的形成及氧化膜的耐水合处理 | 第135页 |
| ·氧化膜水合前后的性能测试 | 第135-136页 |
| ·傅立叶转换红外光谱(FTIR)分析 | 第136页 |
| ·结果与讨论 | 第136-140页 |
| ·ATMP溶液浓度的影响 | 第136-137页 |
| ·ATMP溶液温度的影响 | 第137页 |
| ·热处理温度的影响 | 第137-138页 |
| ·氧化膜的红外光谱 | 第138-140页 |
| ·小结 | 第140页 |
| ·DTPMP提高铝氧化膜耐水合性的研究 | 第140-142页 |
| ·技术思路 | 第140-141页 |
| ·DTPMP处理工艺 | 第141-142页 |
| ·ADP、ATMP、DTPMP耐水合处理效果的对比研究 | 第142-144页 |
| ·本章小结 | 第144-146页 |
| 第八章 结论与展望 | 第146-151页 |
| ·本论文的主要结论 | 第146-149页 |
| ·本论文的创新之处 | 第149页 |
| ·前景展望 | 第149-151页 |
| 参考文献 | 第151-161页 |
| 致谢 | 第161-162页 |
| 攻读博士学位期间发表和录用的学术论文及所申请专利 | 第162-164页 |
| 个人简历 | 第164页 |
