| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-11页 |
| 第二章 文献综述 | 第11-28页 |
| ·ZnO的晶体结构和性能 | 第11-13页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·ZnO的性能与应用 | 第12-13页 |
| ·MgO的晶体结构和性能 | 第13-14页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO合金的研究现状 | 第14-16页 |
| ·ZnMgO／ZnO多层结构的研究进展 | 第16-24页 |
| ·ZnMgO／ZnO异质结 | 第16-17页 |
| ·ZnMgO／ZnO超晶格 | 第17-19页 |
| ·ZnMgO／ZnO多量子阱 | 第19-24页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO薄膜P型掺杂的研究进展 | 第24-26页 |
| ·选题背景、研究内容及意义 | 第26-28页 |
| 第三章 实验原理和实验过程 | 第28-37页 |
| ·PLD工作原理 | 第28-30页 |
| ·PLD特点 | 第30-31页 |
| ·PLD实验系统简介 | 第31-33页 |
| ·实验方法 | 第33-35页 |
| ·薄膜质量及性能表征 | 第35-37页 |
| 第四章 生长参数对Si(111)衬底上生长Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的影响 | 第37-51页 |
| ·引言 | 第37-38页 |
| ·工艺参数对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜质量的影响 | 第38-47页 |
| ·衬底温度对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜生长的影响 | 第38-40页 |
| ·氧压对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜生长的影响 | 第40-42页 |
| ·激光重复频率对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜生长的影响 | 第42-43页 |
| ·脉冲激光能量对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜生长的影响 | 第43-44页 |
| ·缓冲层对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜生长的影响 | 第44-47页 |
| ·工艺参数对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜表面形貌的影响 | 第47-49页 |
| ·衬底温度对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜表面形貌的影响 | 第47-48页 |
| ·氧压对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜表面形貌的影响 | 第48-49页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的PL谱 | 第49-51页 |
| 第五章 Si(111)衬底上生长ZnMgO／ZnO多层薄膜 | 第51-57页 |
| ·引言 | 第51-52页 |
| ·ZnO缓冲层上生长ZnMgO／ZnO／ZnMgO双异质结 | 第52-54页 |
| ·ZnO缓冲层上生长ZnMgO／ZnO多层量子阱结构 | 第54-57页 |
| 第六章 Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的P型掺杂 | 第57-69页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·生长温度对Li掺杂Zn_(0.9)Mg_(0.1)O薄膜的影响 | 第57-62页 |
| ·生长温度对Li掺杂Zn_(0.9)Mg_(0.1)O薄膜质量的影响 | 第58页 |
| ·生长温度对Li掺杂Zn_(0.9)Mg_(0.1)O薄膜电学性能的影响 | 第58-60页 |
| ·生长温度对Li掺杂Zn_(0.9)Mg_(0.1)O薄膜光学性能的影响 | 第60-62页 |
| ·氧压对Li掺杂Zn_(0.9)Mg_(0.1)O薄膜的影响 | 第62-66页 |
| ·氧压对Li掺杂Zn_(0.9)Mg_(0.1)O薄膜质量的影响 | 第62-63页 |
| ·氧压对Li掺杂Zn_(0.9)Mg_(0.1)O薄膜电学性能的影响 | 第63-64页 |
| ·氧压对Li掺杂Zn_(0.9)Mg_(0.1)O薄膜光学性能的影响 | 第64-66页 |
| ·Li含量对Li掺杂Zn_(0.9)Mg_(0.1)O薄膜的影响 | 第66-69页 |
| ·Li含量改变对Li掺杂Zn_(0.9)Mg_(0.1)O薄膜质量的影响 | 第66-67页 |
| ·Li含量改变对Li掺杂Zn_(0.9)Mg_(0.1)O薄膜电学性能的影响 | 第67-68页 |
| ·Li含量改变对Li掺杂Zn_(0.9)Mg_(0.1)O薄膜光学性能的影响 | 第68-69页 |
| 第七章 结论 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第78页 |
