分布电容式介质移相器的研制

第一章 引言	第1-22页
·相控阵天线的相位扫描法的基本原理	第10-13页
·移相器分类及其工作原理	第13-20页
·传统移相器	第14-15页
·铁氧体移相器	第14-15页
·半导体二极管移相器	第15页
·新型移相器	第15-20页
·MMIC GaAs 移相器	第15-16页
·反射式移相器	第16-17页
·MEMS 移相器	第17-18页
·铁电介质移相器	第18-20页
·移相器的研究现状	第20-21页
·本课题的主要内容	第21-22页
第二章 分布电容式介质移相器的设计	第22-33页
·介质移相器基本结构及工作原理	第22-23页
·分布电容式介质移相器设计方案	第23-24页
·分布式电容负载结构介质移相器电路设计	第24-33页
·基本原理分析	第24-28页
·移相器各部分电路结构尺寸设计	第28-33页
·共面波导尺寸设计	第28-29页
·微带线尺寸综合	第29-30页
·端口电路的设计	第30-32页
·负载电容相关参数的确定	第32-33页
第三章 介质移相器的改进与仿真优化	第33-45页
·介质移相器电路结构的改进	第33-34页
·仿真软件的选择和仿真基本原理	第34-37页
·介质移相器相关参数的仿真优化	第37-41页
·中心导带结构参数的确定	第37-39页
·影响器件损耗的部分因素	第39-41页
·基片材料损耗	第39-40页
·介质损耗	第40页
·导体材料损耗	第40-41页
·移相器设计结果	第41-45页
第四章 移相器的加工与完善	第45-60页
·移相器的工艺流程	第45页
·工艺条件的选择	第45-56页
·基片的选择	第46页
·基片的清洗	第46-47页
·BST 铁电薄膜的制备	第47-50页
·光刻胶的选择	第50页
·电极的加工	第50-56页
·电极的选择	第50-51页
·Pt 电极加工工艺	第51-56页
·器件的性能测试与结果分析	第56-59页
·测试夹具的制作	第56-57页
·测试结果分析	第57-59页
·目前存在的问题与今后改进措施	第59-60页
结论	第60-61页
参考文献	第61-65页
致谢	第65页