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NiFeSiMnMo三明治膜巨磁阻抗效应的研究

摘要第1-5页
Abstract第5-6页
第一章 引言第6-9页
 参考文献第8-9页
第二章 文献综述第9-20页
   ·GMI效应的理论研究第9-12页
     ·趋肤效应法第9-10页
     ·等效电路法第10-11页
     ·GMI的来源第11-12页
   ·GMI效应的实验研究第12-18页
     ·GMI效应和磁各向异性的关系第12-14页
     ·GMI效应和驱动电流频率的关系第14-16页
     ·GMI效应和样品的电导率及厚度的关系第16页
     ·单层膜GMI效应的研究第16-18页
   ·GMI效应的应用研究第18-19页
 参考文献第19-20页
第三章 薄膜样品的制备及测试方法第20-24页
   ·薄膜样品的制备第20-21页
     ·真空蒸镀法第20页
     ·磁控溅射法第20-21页
   ·振动样品磁强计(VSM)测量第21-23页
 参考文献第23-24页
第四章 实验设计与过程第24-33页
   ·样品制备系统第24-25页
   ·材料第25页
   ·基片和模具第25-26页
   ·工艺参数第26-28页
     ·溅射工艺参数第26-27页
     ·蒸镀工艺参数第27-28页
   ·热处理设备第28页
   ·膜厚测量第28-29页
   ·膜的磁性测量第29页
   ·巨磁阻抗的测量第29-32页
 参考文献第32-33页
第五章 实验结果与分析第33-48页
   ·样品第33页
   ·三明治膜GMI效应的研究第33-43页
     ·三明治膜GMI效应和驱动频率的关系第34-36页
     ·三明治膜(Z_0-Z_(75))/Z_(75)值和铜膜宽度的关系第36-37页
     ·三明治膜GMI效应和外磁场的关系第37-41页
     ·三明治膜的GMI最大值和铜膜宽度及频率的关系第41-43页
   ·三叫治膜磁导率的研究第43-47页
     ·SS的磁导率和外磁场的关系第43-45页
     ·VS的磁导率和外磁场的关系第45-46页
     ·SS的磁导率和驱动频率的关系第46-47页
   ·小结第47-48页
参考文献第48-49页
致谢第49页

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