真空阴极电弧及等离子体化学气相法沉积类金刚石碳膜的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| ·类金刚石碳膜研究背景及意义 | 第10页 |
| ·类金刚石碳膜的结构与分类 | 第10-12页 |
| ·类金刚石碳膜的性能及应用 | 第12-16页 |
| ·类金刚石碳膜性能 | 第12-14页 |
| ·类金刚石碳膜的应用 | 第14-16页 |
| ·类金刚石碳膜的制备技术 | 第16-18页 |
| ·物理气象沉积(PVD) | 第16-17页 |
| ·等离子体化学气相沉积(PCVD) | 第17-18页 |
| ·类金刚石薄膜表征 | 第18-20页 |
| ·类金刚石碳膜改性 | 第20-22页 |
| ·类金刚石碳膜过渡层 | 第22-23页 |
| ·类金刚石碳膜生长机理模型 | 第23-24页 |
| ·热峰模型 | 第23页 |
| ·离子刻蚀模型 | 第23页 |
| ·亚表面注入模型 | 第23-24页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第24-25页 |
| ·本论文的技术路线 | 第25-26页 |
| 第二章 试验设备及分析方法 | 第26-34页 |
| ·试验设备 | 第26-28页 |
| ·类金刚石碳膜分析方法 | 第28-34页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第28页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第28-29页 |
| ·光电子能谱(XPS) | 第29-30页 |
| ·激光拉曼光谱 | 第30-31页 |
| ·纳米硬度计 | 第31-34页 |
| 第三章 真空阴极电弧法制备类金刚石碳膜 | 第34-51页 |
| ·离子镀技术 | 第34-37页 |
| ·真空石墨电弧特征 | 第37页 |
| ·石墨靶材选用 | 第37-38页 |
| ·真空阴极电弧法制备类金刚石碳膜的成膜过程 | 第38-39页 |
| ·薄膜的制备 | 第39-41页 |
| ·真空阴极电弧法制备类金刚石碳膜工艺参数的确定 | 第39-40页 |
| ·基片的选择与预处理 | 第40-41页 |
| ·真空阴极电弧法镀膜的工艺流程 | 第41页 |
| ·基片负偏压对类金刚石碳膜的影响 | 第41-47页 |
| ·薄膜表面形貌观察 | 第41-43页 |
| ·激光拉曼光谱分析 | 第43-44页 |
| ·光电子能谱(XPS)分析 | 第44-45页 |
| ·硬度测试 | 第45-47页 |
| ·弧流对类金刚石碳膜的影响 | 第47-50页 |
| ·薄膜表面形貌观察 | 第47-48页 |
| ·光电子能谱(XPS)分析 | 第48-50页 |
| ·本章小节 | 第50-51页 |
| 第四章 等离子体化学气相法沉积制备类金刚石碳膜 | 第51-61页 |
| ·PCVD法制备DLC膜的等离子体分析 | 第51-53页 |
| ·等离子体产生机理 | 第51-52页 |
| ·Bulat-6离子源等离子体 | 第52-53页 |
| ·薄膜制备工艺参数的确定 | 第53-54页 |
| ·离子束流对类金刚石碳膜的影响 | 第54-58页 |
| ·薄膜AFM观察 | 第54-55页 |
| ·激光拉曼光谱分析 | 第55-56页 |
| ·光电子能谱(XPS)分析 | 第56-58页 |
| ·硬度测试 | 第58页 |
| ·加速电压对类金刚石碳膜的影响 | 第58-60页 |
| ·本章小节 | 第60-61页 |
| 第五章 氮气对沉积DLC膜的影响 | 第61-65页 |
| ·试验参数确定 | 第61页 |
| ·薄膜表面形貌观察 | 第61-63页 |
| ·薄膜的XRD检测 | 第63页 |
| ·CNx薄膜的显微硬度 | 第63-64页 |
| ·本章小节 | 第64-65页 |
| 第六章 Ti→TiC→DLC复合膜的制备及研究 | 第65-71页 |
| ·试验参数确定 | 第65页 |
| ·薄膜表面形观察和成分分析 | 第65-68页 |
| ·TiC过渡层的XRD检测 | 第68页 |
| ·Ti→TiC→DLC复合膜的结合力分析 | 第68-69页 |
| ·结果讨论 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 结论 | 第71-73页 |
| 本文的特色与创新处 | 第73-74页 |
| 对制备类金刚石碳膜的进一步设想 | 第74-75页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第75-76页 |
| 独创性声明 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-83页 |
