高温霍尔测量和应用
| 引言 | 第1-7页 |
| 第1章 霍尔效应原理 | 第7-26页 |
| 1．1 霍尔效应 | 第7-10页 |
| 1．1．1 霍尔效应 | 第7-9页 |
| 1．1．2 霍尔桥的测量 | 第9-10页 |
| 1．2 Van der Pauw方法 | 第10-16页 |
| 1．2．1 任意形状样品的电阻率 | 第10-12页 |
| 1．2．2 任意形状样品的霍尔效应 | 第12-13页 |
| 1．2．3 样品形状及电极接触点的选择 | 第13-16页 |
| 1．3 霍尔测量的系统误差及其消除方法 | 第16-18页 |
| 1．4 半导体中的载流子浓度与迁移率 | 第18-23页 |
| 1．4．1 载流子浓度 | 第18-21页 |
| 1．4．2 迁移率 | 第21-23页 |
| 1．5 磁阻效应 | 第23-26页 |
| 第2章 测量接口技术 | 第26-37页 |
| 2．1 总线技术 | 第26页 |
| 2．2 PC系统接口总线 | 第26-35页 |
| 2．2．1 I／O地址空间配置规范 | 第27-28页 |
| 2．2．2 扩展接口插座 | 第28-29页 |
| 2．2．3 译码电路 | 第29-30页 |
| 2．2．4 数据总线缓冲器和数据锁存 | 第30页 |
| 2．2．5 低噪声的运算放大器 | 第30-32页 |
| 2．2．6 高速高精度A／D转换 | 第32-35页 |
| 2．3 霍尔实验控制卡与霍尔数据采集卡 | 第35-37页 |
| 第3章 高温霍尔测量系统 | 第37-47页 |
| 3．1 霍尔测量系统的组成 | 第37-42页 |
| 3．1．1 磁场的产生与控制 | 第38-39页 |
| 3．1．2 样品电流源 | 第39-40页 |
| 3．1．3 加热系统的建立 | 第40页 |
| 3．1．4 真空系统的建立 | 第40-41页 |
| 3．1．5 霍尔电压的放大与失配补偿 | 第41-42页 |
| 3．2 VanderPawu样品的测量 | 第42-44页 |
| 3．3 霍尔测量流程 | 第44-47页 |
| 第4章 掺锡纳米a—Fe_2O_3的高温霍尔测量 | 第47-52页 |
| 4．1 a—Fe_2O_3样品的制备 | 第47-48页 |
| 4．2 高温霍尔测量 | 第48页 |
| 4．3 测量结果分析 | 第48-50页 |
| 4．4 磁阻测量 | 第50-52页 |
| 第5章 结论 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
