| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-10页 |
| 图表索引 | 第10-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-29页 |
| 1．1 课题的研究背景及意义 | 第15-16页 |
| 1．2 与本论文研究相关的技术现状 | 第16-25页 |
| 1．2．1 工业CT设备 | 第16-20页 |
| 1．2．2 探测器 | 第20-21页 |
| 1．2．3 重建算法 | 第21-25页 |
| 1．3 本文研究方向的定位 | 第25-26页 |
| 1．4 本文的主要研究内容 | 第26-28页 |
| 1．5 本章小结 | 第28-29页 |
| 第二章 基于高能X射线DR检测系统的工业CT技术 | 第29-39页 |
| 2．1 高能X射线DR检测技术 | 第29-34页 |
| 2．1．1 高能X射线DR检测系统的组成 | 第29-33页 |
| 2．1．2 基于CsI（TI）单晶屏的高能X射线DR检测系统 | 第33-34页 |
| 2．2 基于高能X射线DR系统的工业CT技术 | 第34-38页 |
| 2．3 本章小结 | 第38-39页 |
| 第三章 与CT有关的高能X射线检测物理基础 | 第39-59页 |
| 3．1 常用辐射物理量及其单位 | 第39-40页 |
| 3．2 高能X射线 | 第40-49页 |
| 3．2．1 高能X射线的产生 | 第40-41页 |
| 3．2．2 高能X射线的特点 | 第41-44页 |
| 3．2．3 射线与物质的相互作用 | 第44-48页 |
| 3．2．4 射线的衰减规律 | 第48-49页 |
| 3．3 X射线成像系统的对比度与不清晰度 | 第49-53页 |
| 3．3．1 对比度 | 第50-51页 |
| 3．3．2 不清晰度 | 第51-53页 |
| 3．4 工业CT的分辨率 | 第53-54页 |
| 3．4．1 空间分辨率与密度分辨率 | 第53-54页 |
| 3．4．2 密度分辨率与对比度 | 第54页 |
| 3．5 空间分辨率、密度分辨率、曝光时间及射线剂量的相互关系 | 第54-58页 |
| 3．6 本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 投影图像像质分析及其校正 | 第59-72页 |
| 4．1 CCD相机的暗电流 | 第59-62页 |
| 4．2 成像系统的渐晕效应 | 第62-68页 |
| 4．2．1 射线源辐射强度分布造成的渐晕效应 | 第62-67页 |
| 4．2．2 透镜的渐晕效应 | 第67-68页 |
| 4．3 转换屏响应的不一致性 | 第68-71页 |
| 4．4 本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 重建算法 | 第72-95页 |
| 5．1 重建算法 | 第72-80页 |
| 5．1．1 平行束滤波反投影重建算法 | 第72-76页 |
| 5．1．2 等距扇束滤波反投影重建算法 | 第76-78页 |
| 5．1．3 锥束滤波反投影重建算法 | 第78-80页 |
| 5．2 物体的投影及仿真 | 第80-86页 |
| 5．2．1 椭圆的平行束射线投影仿真 | 第80-81页 |
| 5．2．2 椭圆的等距扇束射线投影仿真 | 第81-83页 |
| 5．2．3 椭球的锥束投影仿真 | 第83-86页 |
| 5．3 平行束、扇束和锥束算法在本系统中的使用条件 | 第86-94页 |
| 5．3．1 圆柱形物体的情况 | 第86-91页 |
| 5．3．2 球形物体的情况 | 第91-94页 |
| 5．4 本章小结 | 第94-95页 |
| 第六章 投影预处理及重建方法实验研究 | 第95-110页 |
| 6．1 投影的获取及预处理 | 第96-99页 |
| 6．1．1 成像系统误差的校正 | 第96页 |
| 6．1．2 射线源强度波动校正及图像裁剪 | 第96-97页 |
| 6．1．3 射束硬化问题 | 第97-99页 |
| 6．2 大口径炮弹的CT重建 | 第99-102页 |
| 6．2．1 z轴方向的CT重建 | 第100-101页 |
| 6．2．2 x轴方向的CT重建 | 第101-102页 |
| 6．3 叶轮的CT重建 | 第102-103页 |
| 6．4 投影数据不完全时的CT重建 | 第103-109页 |
| 6．4．1 投影不完全CT重建的理论研究 | 第103-107页 |
| 6．4．2 缸盖的CT重建 | 第107-109页 |
| 6．5 本章小结 | 第109-110页 |
| 第七章 CT图像伪像研究 | 第110-133页 |
| 7．1 图像重建质量的评价标准 | 第110-111页 |
| 7．2 滤波函数长度的影响 | 第111-113页 |
| 7．3 旋转中心偏移的影响 | 第113-117页 |
| 7．4 成像系统渐晕的影响 | 第117-118页 |
| 7．5 转换屏响应不一致性及CCD暗电流影响 | 第118-121页 |
| 7．6 散射的影响 | 第121-123页 |
| 7．7 条纹伪迹 | 第123-129页 |
| 7．7．1 投影中存在脉冲噪声的情况 | 第123-126页 |
| 7．7．2 物体中密度差引起的条纹伪迹 | 第126-129页 |
| 7．8 探测器动态范围的影响 | 第129-132页 |
| 7．9 本章小结 | 第132-133页 |
| 第八章 结束语 | 第133-136页 |
| 致谢 | 第136-137页 |
| 参考文献 | 第137-144页 |
| 攻读博士期间所发表或待发表的论文 | 第144页 |
