| 1 绪论 | 第1-30页 |
| 1．1 引言 | 第9-10页 |
| 1．2 电镀简介 | 第10-14页 |
| 1．2．1 电镀原理 | 第10-11页 |
| 1．2．2 金属离子阴极还原的可能性 | 第11页 |
| 1．2．3 镀液的组成及各成分的作用 | 第11-14页 |
| 1．2．4 影响镀层性能的因素 | 第14页 |
| 1．3 镀铬研究概况 | 第14-28页 |
| 1．3．1 镀铬概述 | 第14-17页 |
| 1．3．2 镀铬原理 | 第17-24页 |
| 1．3．3 镀铬添加剂研究现状 | 第24-28页 |
| 1．4 本课题研究的主要目的、内容和目标 | 第28-30页 |
| 2 方案设计及试验技术路线 | 第30-34页 |
| 2．1 试验方案的设想 | 第30-31页 |
| 2．2 配方初选试验方案设计 | 第31页 |
| 2．3 配方筛选试验方案设计 | 第31-33页 |
| 2．4 配方优化试验方案设计 | 第33页 |
| 2．5 试验技术路线 | 第33-34页 |
| 3 试验材料及方法 | 第34-41页 |
| 3．1 试验用材料 | 第34-35页 |
| 3．1．1 施镀基底材料 | 第34页 |
| 3．1．2 试验试剂 | 第34页 |
| 3．1．3 试验设备 | 第34-35页 |
| 3．2 试验方法 | 第35-41页 |
| 3．2．1 基体前处理 | 第35页 |
| 3．2．2 镀铬溶液的配制 | 第35-36页 |
| 3．2．3 施镀工艺流程 | 第36页 |
| 3．2．4 镀铬层性能检验 | 第36-38页 |
| 3．2．5 镀液性能测试 | 第38-41页 |
| 4 试验结果及分析 | 第41-91页 |
| 4．1 配方初选试验结果与分析 | 第41-57页 |
| 4．1．1 低铬镀铬液特性 | 第41-46页 |
| 4．1．2 有机与无机阴离子添加剂对镀铬质量影响及分析 | 第46-50页 |
| 4．1．3 稀土添加剂对镀铬质量的影响及分析 | 第50-54页 |
| 4．1．4 单一添加剂作用规律初探 | 第54页 |
| 4．1．5 阶段小结 | 第54-57页 |
| 4．2 配方筛选试验结果及分析 | 第57-84页 |
| 4．2．1 双添加剂体系正交试验 | 第57-72页 |
| 4．2．2 三添加剂体系正交试验 | 第72-83页 |
| 4．2．3 阶段小结 | 第83-84页 |
| 4．3 配方优化 | 第84页 |
| 4．4 性能对比 | 第84-87页 |
| 4．5 镀层表面形貌观察 | 第87-91页 |
| 5 复合添加剂作用机理探讨及分析 | 第91-106页 |
| 5．1 电化学反应与电沉积过程 | 第91-95页 |
| 5．1．1 电化学反应 | 第91-93页 |
| 5．1．2 极化对电沉积过程的影响 | 第93-95页 |
| 5．2 添加剂作用机理探讨 | 第95-102页 |
| 5．2．1 通过吸附改变电极／溶液界面的双电层进而影响电极过程 | 第95-98页 |
| 5．2．2 分散层电位对电化学反应速度的影响（“φ_1效应”）的影响 | 第98-101页 |
| 5．2．3 通过络合或配合作用影响金属的阴极沉积过程 | 第101-102页 |
| 5．3 四代添加剂作用机理的分析 | 第102-106页 |
| 6 影响添加剂使用效果的其它因素 | 第106-113页 |
| 6．1 镀铬液浓度的影响 | 第106页 |
| 6．2 阳极导电性的影响 | 第106-107页 |
| 6．3 阴阳极距离的影响 | 第107-108页 |
| 6．4 电流密度与温度配合的影响 | 第108-109页 |
| 6．5 电流波动的影响 | 第109页 |
| 6．6 杂质的影响 | 第109-113页 |
| 7 结论 | 第113-115页 |
| 致谢 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-119页 |
| 附录 | 第119-122页 |
| 作者在硕士论文期间撰写和发表的论文 | 第122页 |
