| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 中子多层膜概述 | 第8-19页 |
| ·引言 | 第8-12页 |
| ·中子散射简介 | 第8-10页 |
| ·散裂中子源简介 | 第10-12页 |
| ·中子多层膜光学元件 | 第12-17页 |
| ·中子多层膜单色器(Multilayer Neutron Monochromator) | 第12-14页 |
| ·中子超反射镜(Neutron Supermirror) | 第14-17页 |
| ·本课题的研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 薄膜样品的制备 | 第19-30页 |
| ·引言 | 第19页 |
| ·磁控溅射原理 | 第19-24页 |
| ·溅射原理 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射 | 第21-23页 |
| ·溅射镀膜的薄膜生长 | 第23-24页 |
| ·磁控溅射设备与多层膜的制备 | 第24-30页 |
| ·实验设备简介 | 第24-26页 |
| ·镀膜方式介绍 | 第26-27页 |
| ·多层膜样品的制备 | 第27-28页 |
| ·溅射速率的测定 | 第28-30页 |
| 第三章 小角XRD测量薄膜结构 | 第30-37页 |
| ·X射线衍射基础 | 第30-32页 |
| ·劳厄(Laue)方程 | 第30-31页 |
| ·布拉格(Bragg)方程 | 第31-32页 |
| ·X射线在多层膜中的衍射 | 第32-36页 |
| ·X射线小角衍射 | 第32-34页 |
| ·界面粗糙度对反射率的影响 | 第34-36页 |
| ·周期厚度和界面粗糙度的拟合 | 第36-37页 |
| 第四章 Ni/Ti多层膜周期结构研究 | 第37-46页 |
| ·引言 | 第37-38页 |
| ·固定模式不同溅射位置的影响 | 第38-40页 |
| ·移动模式下不同溅射位置的影响 | 第40-42页 |
| ·同一溅射位置上不同移动速率的影响 | 第42-44页 |
| ·移动模式下溅射功率和周期厚度的影响 | 第44-45页 |
| ·结论 | 第45-46页 |
| 总结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-53页 |
| 硕士阶段完成的论文 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |