（001）和（110）表面上薄膜生长特性的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-21页 |
| ·研究背景 | 第10-11页 |
| ·薄膜生长的实验研究 | 第11-15页 |
| ·岛形貌的分类 | 第12页 |
| ·不同基底结构的外延生长 | 第12-15页 |
| ·薄膜生长的理论研究 | 第15-16页 |
| ·薄膜生长的模拟研究 | 第16-19页 |
| ·计算机模拟薄膜生长的模型 | 第16-18页 |
| ·薄膜生长的计算机模拟方法 | 第18-19页 |
| ·研究现状及本文的工作 | 第19-21页 |
| 第二章 基本理论 | 第21-34页 |
| ·薄膜生长的原子过程 | 第21-23页 |
| ·表面原子的扩散类型及薄膜生长模式 | 第23-25页 |
| ·平均场成核理论 | 第25-27页 |
| ·岛尺寸分布的标度理论 | 第27-30页 |
| ·影响成核的因素 | 第30-34页 |
| 第三章 模型建立和模拟的实现 | 第34-46页 |
| ·模拟方法的选择 | 第34-36页 |
| ·模型的建立 | 第36-41页 |
| ·蒙特卡罗方法的原理和实现 | 第36-37页 |
| ·bcc(001)模型 | 第37-39页 |
| ·fcc(110)模型 | 第39-41页 |
| ·模拟仿真的实现 | 第41-46页 |
| ·KMC模拟的考虑因素 | 第41-42页 |
| ·本模拟采用的结合势的性质 | 第42-44页 |
| ·模拟相关的数学方法 | 第44-46页 |
| 第四章 模拟结果分析与讨论 | 第46-68页 |
| ·(001)面上岛形貌由紧致向枝晶的转变 | 第46-55页 |
| ·模拟图展示 | 第46-50页 |
| ·沉积速率、衬底温度 | 第50-52页 |
| ·生长率D/F的研究 | 第52-55页 |
| ·转变温度 | 第55页 |
| ·(110)基底上模拟研究 | 第55-68页 |
| ·Ag/Ag(110)岛形貌 | 第56-58页 |
| ·一维向二维生长的转变 | 第58-62页 |
| ·模拟结果与实验及其他模拟的对比 | 第62-64页 |
| ·Ag/Ag(110)上的线缺陷生长 | 第64-65页 |
| ·Cu/Cu(110)上的生长情况 | 第65-68页 |
| 第五章 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第75页 |
