| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·研究背景及意义 | 第10-12页 |
| ·本小组研究情况 | 第12-15页 |
| ·本文的研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 样品制备及实验方法 | 第16-24页 |
| ·实验样品制备 | 第16-18页 |
| ·实验材料与样品制备 | 第16-17页 |
| ·硅油液体薄层的双频耦合等离子体处理 | 第17-18页 |
| ·分析测试方法 | 第18-24页 |
| ·荧光光谱分析 | 第18-19页 |
| ·硅油液体结构的傅立叶变换红外光谱表征 | 第19-20页 |
| ·硅油表面形貌的金相分析 | 第20-21页 |
| ·等离子体发射光谱分析 | 第21-22页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第22-23页 |
| ·x 射线衍射分析 | 第23-24页 |
| 第三章 碳氟等离子体处理硅油的基本结构与发光特性 | 第24-29页 |
| ·等离子体处理硅油的表面微结构特性 | 第24页 |
| ·等离子体处理硅油的 x 射线衍射图 | 第24-26页 |
| ·等离子体处理硅油的光致发光特性 | 第26-29页 |
| 第四章 C_2F_6、C_4F_8等离子体处理硅油的光致发光特性 | 第29-40页 |
| ·C_2F_6、C_4F_8等离子体处理硅油的光致发光谱 | 第29-30页 |
| ·C_2F_6、C_4F_8等离子体处理硅油的红外光谱 | 第30-32页 |
| ·C_2F_6、C_4F_8等离子体处理硅油光致发光的可能起因 | 第32-36页 |
| ·低频功率对 C_2F_6、C_4F_8等离子体处理硅油的光致发光性能影响 | 第36-40页 |
| ·低频功率对 C_2F_6等离子体处理硅油的光致发光性能影响 | 第36-37页 |
| ·低频功率对 C_4F_8等离子体处理硅油的光致发光性能影响 | 第37-40页 |
| 第五章 O_2/C_2F_6等离子体处理硅油的光致发光特性 | 第40-48页 |
| ·低频功率对 C_2F_6/O_2等离子体处理硅油光致发光特性的影响 | 第41-44页 |
| ·不同低频功率下 O_2/C_2F_6等离子体处理硅油的光致发光谱 | 第41-42页 |
| ·不同低频功率下 O_2/C_2F_6等离子体处理硅油的红外光谱 | 第42-44页 |
| ·O_2/C_2F_6流量比对 O_2/C_2F_6等离子体处理硅油光致发光特性的影响 | 第44-48页 |
| ·不同 O_2/C_2F_6流量比 O_2/C_2F_6等离子体处理硅油的光致发光谱 | 第44-46页 |
| ·不同 O_2/C_2F_6流量比 O_2/C_2F_6等离子体处理硅油的红外光谱 | 第46-48页 |
| 第六章 CHF_3等离子体处理硅油的光致发光特性 | 第48-51页 |
| ·不同低频功率下 CHF_3等离子体处理硅油的光致发光谱 | 第48-49页 |
| ·不同低频功率下 CHF_3等离子体处理硅油的红外光谱 | 第49-51页 |
| 第七章 结论及展望 | 第51-54页 |
| ·本文的主要结果 | 第51-52页 |
| ·存在的问题及进一步研究方向 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
