摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-8页 |
第一章 AZO薄膜材料的综述 | 第8-15页 |
·引言 | 第8-9页 |
·AZO薄膜材料的结构和基本性质 | 第9-10页 |
·AZO薄膜材料的结构 | 第9页 |
·AZO薄膜的导电机理与电学性质 | 第9页 |
·AZO薄膜的光学性质 | 第9-10页 |
·AZO薄膜的应用前景 | 第10-11页 |
·AZO薄膜的制备方法 | 第11-12页 |
·化学气相沉积法(CVD) | 第11页 |
·磁控溅射(MagnetronSputtering,MS)法 | 第11页 |
·溶胶-凝胶(Sol-Gel)法 | 第11-12页 |
·AZO薄膜材料的研究状况与进展 | 第12-13页 |
·AZO薄膜研究工作的发展趋势和方向 | 第13-15页 |
第二章 PLD技术制备AZO薄膜与表征方法 | 第15-21页 |
·脉冲激光沉积(PLD)技术 | 第15-16页 |
·PLD原理 | 第15页 |
·PLD特点 | 第15-16页 |
·脉冲激光沉积系统 | 第16-18页 |
·激光光源 | 第16-17页 |
·沉积系统 | 第17-18页 |
·AZO薄膜的制备工艺 | 第18页 |
·影响AZO薄膜特性的参数 | 第18-19页 |
·衬底温度 | 第18页 |
·氧气压强 | 第18-19页 |
·源基距 | 第19页 |
·AZO薄膜性质表征 | 第19-21页 |
·AZO薄膜的结构表征 | 第19-20页 |
·AZO薄膜的光学特性的表征 | 第20-21页 |
第三章 不同生长参数对薄膜结构及光学特性的影响 | 第21-32页 |
·生长温度对AZO薄膜结构的影响 | 第21-27页 |
·实验过程 | 第21页 |
·样品的XRD分析 | 第21-25页 |
·样品的表面形貌 | 第25-27页 |
·氧气氛压强对AZO薄膜结构的影响 | 第27-29页 |
·实验过程 | 第27页 |
·样品的XRD分析 | 第27-29页 |
·AZO薄膜的透射光谱和吸收光谱 | 第29-31页 |
·不同温度下生长样品的透射光谱和吸收光谱 | 第29-30页 |
·不同生长气氛压强样品的透射光谱和吸收光谱 | 第30-31页 |
·小结 | 第31-32页 |
第四章 溶胶-凝胶法生长AZO薄膜的结构特性以及光电性质 | 第32-39页 |
·引言 | 第32页 |
·溶胶-凝胶法生长AZO薄膜的实验过程 | 第32-33页 |
·溶胶的制备 | 第32-33页 |
·薄膜的制备及退火 | 第33页 |
·薄膜的表征 | 第33页 |
·溶胶-凝胶法制备AZO薄膜的结构特性 | 第33-38页 |
·小结 | 第38-39页 |
参考文献 | 第39-44页 |
在校期间发表论文 | 第44-45页 |
致谢 | 第45页 |