| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-12页 |
| ·研究背景 | 第7-10页 |
| ·本课题组的主要研究内容 | 第10-11页 |
| ·本文的研究内容 | 第11-12页 |
| 第二章 实验样品的制备及性能表征方法 | 第12-24页 |
| ·SiCOH 薄膜的制备 | 第12-16页 |
| ·微波电子回旋共振等离子体原理简介 | 第12-13页 |
| ·微波ECR-CVD 沉积系统 | 第13-14页 |
| ·实验参数 | 第14-16页 |
| ·SiCOH 薄膜的O_2 等离子体处理 | 第16页 |
| ·Cu 薄膜的制备与热应力（thermal stress）实验 | 第16-17页 |
| ·电容-电压（C-V）、电流-电压（I-V）分析 | 第17-18页 |
| ·SiCOH 薄膜结构的傅立叶变换红外光谱表征方法 | 第18-21页 |
| ·SiCOH 薄膜表面形貌的原子力显微镜表征 | 第21-24页 |
| 第三章 SiCOH 薄膜中的Cu 扩散分析 | 第24-31页 |
| ·Cu/SiCOH/Si 体系的漏电流分析 | 第24-26页 |
| ·Cu/SiCOH/Si 体系的C-V 分析与平带电压漂移 | 第26-29页 |
| ·Cu/SiCOH/Si 体系的热应力实验与激活能分析 | 第29-31页 |
| 第四章 Cu 扩散降低的SiCOH 薄膜结构关联 | 第31-34页 |
| ·Cu 扩散的降低与SiCOH 薄膜键结构的关系 | 第31-32页 |
| ·Cu 扩散的降低与薄膜表面形貌的关系 | 第32-34页 |
| 第五章 结论 | 第34-36页 |
| ·本文的主要结果 | 第34页 |
| ·存在的主要问题和进一步的研究方向 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-41页 |
| 攻读学位期间公开发表论文 | 第41-42页 |
| 致谢 | 第42-43页 |
| 详细摘要 | 第43-45页 |
