| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 研究背景 | 第9-19页 |
| ·ZnO 的晶体结构特性 | 第9-10页 |
| ·ZnO 晶体中的缺陷 | 第10-12页 |
| ·ZnO 晶体中的本征点缺陷及相互作用 | 第10-12页 |
| ·ZnO 晶体中的线缺陷 | 第12页 |
| ·ZnO 薄膜的研究领域及其应用 | 第12-15页 |
| ·发光材料 | 第12-13页 |
| ·透明导电材料 | 第13-14页 |
| ·电声器件与声光器件 | 第14页 |
| ·其它领域的应用 | 第14-15页 |
| ·ZnO 薄膜研究存在的问题及研究趋势 | 第15-16页 |
| ·本文研究思路 | 第16-17页 |
| 参考文献 | 第17-19页 |
| 第二章 ZnO 薄膜的制备技术及表征 | 第19-32页 |
| ·实验装置及设备技术参数 | 第19-21页 |
| ·基片清洗 | 第21-22页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第22-29页 |
| ·溅射镀膜 | 第22-23页 |
| ·溅射机理 | 第23-25页 |
| ·直流溅射 | 第25-27页 |
| ·射频溅射 | 第27-28页 |
| ·磁控溅射 | 第28-29页 |
| ·磁控溅射主要技术特点 | 第29页 |
| ·薄膜的表征 | 第29-31页 |
| ·膜厚测量 | 第29-30页 |
| ·X 射线衍射分析(XRD) | 第30页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第30页 |
| ·高分辨率透射电镜(TEM) | 第30页 |
| ·显微共焦拉曼(Raman) 光谱仪 | 第30页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS) | 第30-31页 |
| 参考文献 | 第31-32页 |
| 第三章 Zn_(1-x)Cu_xO 薄膜的结构 | 第32-42页 |
| ·Zn_(1-x)Cu_xO 薄膜的XRD 分析 | 第32-34页 |
| ·Zn_(1-x)Cu_xO 薄膜的SEM 和AFM 照片 | 第34-37页 |
| ·Zn_(1-x)Cu_xO 薄膜的XPS 分析 | 第37-39页 |
| ·Si 基片上的Zn_(1-x)Cu_xO 薄膜的Raman 分析 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-42页 |
| 第四章 Zn_(1-x)Cu_xO 薄膜的光学性质研究 | 第42-49页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·薄膜的光致发光原理 | 第42-43页 |
| ·Zn_(1-x)Cu_xO 薄膜的PL 谱分析 | 第43-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-49页 |
| 第五章 Zn_(1-x)Cu_xO 薄膜的磁学性质研究 | 第49-58页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·薄膜磁性起源 | 第49-52页 |
| ·Zn_(1-x)Cu_xO 薄膜的磁性测量 | 第52-54页 |
| ·Zn_(1-x)Cu_xO 薄膜的磁性 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-58页 |
| 第六章 结论 | 第58-60页 |
| 攻读学位期间公开发表的论文 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 详细摘要 | 第62-64页 |