摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-6页 |
目录 | 第6-10页 |
主要符号说明 | 第10-14页 |
1 绪论 | 第14-25页 |
·课题提出背景及目的意义 | 第14-16页 |
·课题提出的背景 | 第14-16页 |
·课题的目的意义 | 第16页 |
·奥氏体不锈钢表面硬化处理工艺及离子热处理设备研究现状 | 第16-24页 |
·奥氏体不锈钢表面硬化处理工艺研究现状 | 第16-19页 |
·离子热处理设备研究现状 | 第19-24页 |
·课题主要研究内容 | 第24-25页 |
2 奥氏体不锈钢LTPC表面硬化处理设备的设计 | 第25-63页 |
·奥氏体不锈钢LTPC表面硬化处理设备的工作原理 | 第25页 |
·奥氏体不锈钢LTPC表面硬化处理设备的工作过程 | 第25页 |
·奥氏体不锈钢LTPC表面硬化处理设备的主体结构设计 | 第25-46页 |
·真空炉体外形、材料以及壁厚尺寸的确定 | 第25-31页 |
·封头设计 | 第31-32页 |
·保温层设计 | 第32-34页 |
·真空系统设计 | 第34-38页 |
·密封系统设计 | 第38-43页 |
·冷却系统设计 | 第43-45页 |
·观察窗设计 | 第45-46页 |
·奥氏体不锈钢LTPC表面硬化处理设备辅助系统设计 | 第46-60页 |
·测温系统设计 | 第46-48页 |
·供气系统设计 | 第48页 |
·液压升降系统设计 | 第48-57页 |
·保温笼及其支架的设计 | 第57-59页 |
·阴极电极设计 | 第59-60页 |
·奥氏体不锈钢LTPC表面硬化处理设备的主体结构三视图 | 第60-62页 |
·结论 | 第62-63页 |
3 奥氏体不锈钢LTPC处理的工艺研究 | 第63-80页 |
·引言 | 第63页 |
·试验方法 | 第63-67页 |
·试验设备及试验材料 | 第63-65页 |
·试验过程 | 第65-66页 |
·试验工艺参数 | 第66页 |
·分析测试方法 | 第66-67页 |
·试验结果 | 第67-76页 |
·奥氏体不锈钢LTPC处理后表面SEM分析 | 第67-68页 |
·奥氏体不锈钢LTPC前后表面XRD分析 | 第68-70页 |
·渗碳层金相组织观察 | 第70-73页 |
·硬度分析 | 第73页 |
·渗碳层厚度分析 | 第73-74页 |
·奥氏体不锈钢LTPC前后的电化学分析 | 第74-75页 |
·奥氏体不锈钢LTPC前后的化学腐蚀分析 | 第75-76页 |
·分析讨论 | 第76-79页 |
·渗碳温度对渗碳层厚度及性能的影响 | 第77页 |
·渗碳时间对渗碳层厚度及性能的影响 | 第77-79页 |
·基体元素对渗碳层厚度及性能的影响 | 第79页 |
·结论 | 第79-80页 |
4 奥氏体不锈钢LTPC机理的研究 | 第80-93页 |
·引言 | 第80-84页 |
·试验方法 | 第84-85页 |
·试验设备及试验材料 | 第84页 |
·试验过程 | 第84页 |
·试验工艺参数 | 第84-85页 |
·分析测试方法 | 第85页 |
·试验结果分析 | 第85-89页 |
·金相分析 | 第85-86页 |
·显微硬度分析 | 第86页 |
·表面形貌分析 | 第86-87页 |
·表面的成分分析 | 第87-88页 |
·表面X射线衍射分析 | 第88-89页 |
·分析讨论 | 第89-90页 |
·清洗、吸附、溅射与打入理论分析 | 第89页 |
·捕捉、吸附与打入理论分析 | 第89页 |
·Rembges碳快速移动离子渗碳机理分析 | 第89-90页 |
·Edenhofer碳快速移动离子渗碳机理分析 | 第90页 |
·离子渗碳机理探讨 | 第90-92页 |
·结论 | 第92-93页 |
5 奥氏体不锈钢LTPC处理的应用研究 | 第93-101页 |
·引言 | 第93-94页 |
·试验方法 | 第94-95页 |
·试验设备及试验材料 | 第94页 |
·试验过程 | 第94页 |
·试验工艺参数 | 第94-95页 |
·分析测试方法 | 第95页 |
·试验结果及分析讨论 | 第95-100页 |
·LTPC处理后的外观质量 | 第95-96页 |
·X射线衍射分析 | 第96页 |
·渗碳层的金相分析 | 第96-97页 |
·渗碳层的厚度 | 第97页 |
·渗碳层的硬度 | 第97-98页 |
·LTPC处理前后表面的电化学分析 | 第98-99页 |
·LTPC处理前后表面的化学腐蚀分析 | 第99-100页 |
·结论 | 第100-101页 |
6 总结与展望 | 第101-103页 |
·总结 | 第101-102页 |
·展望 | 第102-103页 |
参考文献 | 第103-108页 |
附录Ⅰ:奥氏体不锈钢低温离子渗碳硬化处理设备实物图 | 第108-109页 |
附录Ⅱ:设备进行LTPC处理工作状态图 | 第109-110页 |
致谢 | 第110-111页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文、专利及获奖情况 | 第111-112页 |