摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
目录 | 第8-11页 |
图表目录 | 第11-14页 |
1. 绪论 | 第14-26页 |
·课题背景 | 第14-15页 |
·动态干涉技术的发展现状 | 第15-24页 |
·基于高速采集的单幅干涉图法 | 第16页 |
·共光路型式的干涉仪 | 第16-17页 |
·随机移相干涉术 | 第17-18页 |
·自适应抗振干涉术 | 第18-19页 |
·同步移相干涉术 | 第19-24页 |
·课题来源 | 第24-25页 |
·本论文主要工作和内容安排 | 第25-26页 |
2. 动态干涉测量原理 | 第26-48页 |
·偏振干涉的基本原理 | 第26-29页 |
·偏振的琼斯矩阵表示 | 第26-27页 |
·正交偏振光的干涉及移相 | 第27-29页 |
·短相干光源Fizeau型动态干涉仪 | 第29-36页 |
·系统光路及原理分析 | 第29-31页 |
·空间分光系统 | 第31-33页 |
·偏振移相系统 | 第33-34页 |
·干涉图的高速采集 | 第34页 |
·干涉图的处理 | 第34-36页 |
·干涉图空间位置匹配 | 第34-35页 |
·波面处理 | 第35-36页 |
·讨论 | 第36-47页 |
·干涉图对比度 | 第36-37页 |
·干涉腔中多次反射 | 第37-43页 |
·材料应力引入的误差 | 第43-47页 |
·本章小结 | 第47-48页 |
3. 用于动态干涉仪的短相干光源 | 第48-64页 |
·部分相干理论 | 第48-52页 |
·光源的非单色性 | 第48-49页 |
·互相干函数 | 第49-51页 |
·傅里叶变换光谱技术 | 第51-52页 |
·LED作为短相干光源的Fizeau干涉实验 | 第52-56页 |
·利用乌氏干涉仪测量LED光谱分布 | 第53-54页 |
·LED作为干涉仪光源的实验 | 第54-56页 |
·电流调制半导体激光器 | 第56-63页 |
·半导体激光器纵模与相干性 | 第56-58页 |
·半导体激光器电流调制实验 | 第58-61页 |
·注入电流变化引起的半导体激光器波长漂移 | 第61-62页 |
·温度变化对半导体激光器相干性的影响 | 第62-63页 |
·本章小结 | 第63-64页 |
4. 动态干涉测量实验与误差分析 | 第64-84页 |
·实验 | 第64-74页 |
·实验系统 | 第64-65页 |
·动态干涉系统的移相器标定 | 第65-70页 |
·动态干涉系统的抗振性能测试 | 第70-72页 |
·振动对干涉条纹对比度的影响 | 第70-72页 |
·振动环境中测量重复性实验 | 第72页 |
·动态波面测试 | 第72-74页 |
·误差分析 | 第74-83页 |
·干涉系统的误差分析 | 第74-80页 |
·1/4波片QWP3的相位延迟量误差 | 第76-77页 |
·1/4波片QWP3的方位角误差 | 第77-78页 |
·偏振片方位角误差 | 第78-79页 |
·分光系统误差 | 第79-80页 |
·1/4波片QWP1和QWP2的位相延迟误差及方位角误差 | 第80页 |
·空间不一致产生的误差 | 第80-82页 |
·误差分析小结 | 第82-83页 |
·本章小结 | 第83-84页 |
5. 平行平板绝对面形分布的动态干涉测量技术研究 | 第84-105页 |
·平面绝对检验的三面互检法 | 第84-88页 |
·平面绝对检验的两平晶法原理 | 第88-92页 |
·Zernike多项式介绍 | 第88-90页 |
·两平晶法测量原理 | 第90-92页 |
·实验 | 第92-99页 |
·平晶Ⅱ折射率均匀性引入的波差测量 | 第92-94页 |
·两平晶法绝对检验实验 | 第94-96页 |
·比对实验 | 第96-98页 |
·φ600mm干涉仪参考面的绝对检验 | 第98-99页 |
·两平晶法的其它应用 | 第99页 |
·平行平板折射率均匀性和面形的绝对检验 | 第99-104页 |
·本章小结 | 第104-105页 |
6. 全文总结 | 第105-107页 |
·本文所做工作 | 第105-106页 |
·本文的创新点 | 第106页 |
·有待解决的问题 | 第106-107页 |
致谢 | 第107-108页 |
参考文献 | 第108-114页 |
附录 | 第114-115页 |