SnO2透明导电薄膜的溶胶—凝胶制备与性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-23页 |
| ·透明导电薄膜材料概述 | 第8-9页 |
| ·透明导电氧化物薄膜简介 | 第9-11页 |
| ·In_2O_3基透明导电薄膜 | 第9页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜 | 第9-10页 |
| ·SnO_2基透明导电薄膜 | 第10-11页 |
| ·掺杂的氧化锡薄膜 | 第11-15页 |
| ·n型透明导电SnO_2薄膜 | 第11-14页 |
| ·p型透明导电SnO_2薄膜 | 第14-15页 |
| ·TCO薄膜的制备工艺 | 第15-20页 |
| ·磁控溅射法 | 第15-16页 |
| ·气相沉积法 | 第16页 |
| ·真空蒸发镀膜法 | 第16-17页 |
| ·热喷涂法 | 第17页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第17-20页 |
| ·本研究课题的提出 | 第20-21页 |
| ·论文工作构思及主要工作任务 | 第21页 |
| ·创新点 | 第21-23页 |
| 第二章 实验与研究方法 | 第23-30页 |
| ·溶胶-凝胶法制备掺杂SnO_2薄膜主要原料 | 第23页 |
| ·实验设备与器材 | 第23-24页 |
| ·实验工艺 | 第24-26页 |
| ·SnC_2O_4的制备 | 第24-25页 |
| ·络合剂配制 | 第25页 |
| ·锡溶胶的制备 | 第25页 |
| ·掺杂溶胶的配制 | 第25-26页 |
| ·玻璃基片的清洗 | 第26页 |
| ·提拉镀膜、干燥和热处理 | 第26页 |
| ·薄膜结构和性能的检测 | 第26-30页 |
| ·热失重差热分析 | 第26页 |
| ·SEM分析 | 第26页 |
| ·FETEM分析 | 第26-27页 |
| ·XRD分析 | 第27页 |
| ·XPS分析 | 第27页 |
| ·薄膜电阻率测量 | 第27-28页 |
| ·UV-VIS测量 | 第28-30页 |
| 第三章 SnO_2薄膜的制备及溶胶的络合化学 | 第30-38页 |
| ·稳定溶胶的制备 | 第30-31页 |
| ·sol-gel化学机理的探讨 | 第31-34页 |
| ·酸性络合剂体系 | 第32页 |
| ·碱性络合剂体系 | 第32页 |
| ·混合络合剂体系 | 第32-34页 |
| ·络合剂的选择 | 第34-35页 |
| ·溶剂的选择 | 第35-37页 |
| ·预热处理 | 第37-38页 |
| 第四章 溶胶凝胶法SnO_2薄膜的Sb掺杂 | 第38-50页 |
| ·Sb络合机理 | 第38-39页 |
| ·Sb掺杂的导电机理 | 第39页 |
| ·掺杂浓度对薄膜性能和结构的影响 | 第39-44页 |
| ·掺杂浓度对晶格结构的影响 | 第39-41页 |
| ·Sb掺杂对薄膜导电性能的影响 | 第41-43页 |
| ·掺杂浓度对光学性能的影响 | 第43-44页 |
| ·膜厚对薄膜性能和结构的影响 | 第44-47页 |
| ·拉膜次数对晶格结构的影响 | 第45-46页 |
| ·拉膜次数对薄膜导电性能的影响 | 第46页 |
| ·拉膜次数对薄膜透光性能的影响 | 第46-47页 |
| ·热处理对薄膜性能和结构的影响 | 第47-49页 |
| ·热处理对薄膜结构的影响 | 第47-48页 |
| ·热处理对薄膜性能的影响 | 第48-49页 |
| ·热处理对薄膜透光性能的影响 | 第49-50页 |
| 第五章 SnO_2薄膜的复合离子掺杂改性 | 第50-62页 |
| ·Sb-Mo复合掺杂 | 第50-54页 |
| ·钼掺杂对ATO薄膜结构的影响 | 第50-52页 |
| ·钼掺杂对ATO薄膜性能的影响 | 第52-54页 |
| ·Sb-Zn复合掺杂 | 第54-57页 |
| ·锌掺杂对ATO薄膜结构的影响 | 第54-56页 |
| ·锌掺杂对ATO薄膜性能的影响 | 第56-57页 |
| ·Sb-F复合掺杂 | 第57-62页 |
| ·氟掺杂对ATO薄膜结构的影响 | 第57-59页 |
| ·氟掺杂对ATO薄膜性能的影响 | 第59-62页 |
| 第六章 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
