| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-59页 |
| ·概述 | 第12-13页 |
| ·太阳电池的发展趋势 | 第13-17页 |
| ·薄膜太阳电池的发展优势 | 第13-14页 |
| ·CIGS类薄膜太阳电池的发展机遇 | 第14-16页 |
| ·柔性基底CIGS薄膜太阳电池的研发意义 | 第16-17页 |
| ·柔性基底CIGS薄膜太阳电池国内外发展概况 | 第17-21页 |
| ·CIGS薄膜太阳电池的结构与制备工艺 | 第21-53页 |
| ·CIGS薄膜太阳电池的结构 | 第21-24页 |
| ·CIGS薄膜太阳电池吸收层的制备工艺 | 第24-43页 |
| ·CIGS吸收层的成分 | 第24-25页 |
| ·CIGS吸收层的制备工艺 | 第25-43页 |
| ·CIGS太阳电池其他层的制备及存在的问题 | 第43-52页 |
| ·背电极 | 第43-47页 |
| ·缓冲层 | 第47-50页 |
| ·窗口层 | 第50-51页 |
| ·栅电极 | 第51页 |
| ·阻挡层 | 第51-52页 |
| ·柔性CIGS薄膜太阳电池产业化所需要的技术 | 第52-53页 |
| ·本论文的主要研究工作 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 第二章 Roll-to-Roll溅射沉积中的关键技术研究 | 第59-101页 |
| ·引言 | 第59页 |
| ·多靶连续卷绕镀膜机溅射室布气均匀性研究 | 第59-66页 |
| ·概述 | 第59-61页 |
| ·充气管道设计计算 | 第61页 |
| ·抽气管道设计计算 | 第61-65页 |
| ·布气均匀性设计 | 第65页 |
| ·试验 | 第65-66页 |
| ·结论 | 第66页 |
| ·柔性基底薄膜太阳电池背电极织构化研究 | 第66-75页 |
| ·概述 | 第66-67页 |
| ·聚酰亚胺(PI)衬底上Al电极织构化研究 | 第67-74页 |
| ·结论 | 第74-75页 |
| ·离子束辅助反应溅射技术 | 第75-99页 |
| ·引言 | 第75-78页 |
| ·反应磁控溅射 | 第75-77页 |
| ·离子束辅助反应溅射技术 | 第77-78页 |
| ·离子束辅助溅射沉积系统 | 第78-81页 |
| ·脉冲磁控溅射电源 | 第79-80页 |
| ·阳极膜线性离子源 | 第80-81页 |
| ·离子束辅助反应溅射模型 | 第81-84页 |
| ·电荷交换(Charge Exchange) | 第82页 |
| ·原子碰撞(Atomic Collision) | 第82-83页 |
| ·增强扩散(Enhanced Diffusivity) | 第83页 |
| ·化学反应(Chemical Reaction) | 第83-84页 |
| ·采用离子束辅助反应溅射技术沉积Al_2O_3阻挡膜 | 第84-99页 |
| ·引言 | 第84-86页 |
| ·氧离子辅助下的迟滞现象 | 第86页 |
| ·离子能量对薄膜成分及性能的影响 | 第86-91页 |
| ·离子源放电电流对薄膜成分及性能的影响 | 第91-93页 |
| ·氧气分量对薄膜性质的影响 | 第93-96页 |
| ·磁控靶溅射功率对薄膜性质的影响 | 第96-98页 |
| ·IBO辅助脉冲反应磁控溅射技术制备Al_2O_3薄膜工艺参数 | 第98-99页 |
| ·结论 | 第99页 |
| ·本章小结 | 第99-100页 |
| 参考文献 | 第100-101页 |
| 第三章 柔性基底CuInSe_2薄膜太阳能电池的溅射沉积初步研究 | 第101-108页 |
| ·引言 | 第101-102页 |
| ·CIS太阳电池制备 | 第102-103页 |
| ·阻挡层镀制 | 第102-103页 |
| ·背电极层镀制 | 第103页 |
| ·吸收层镀制 | 第103页 |
| ·缓冲层镀制 | 第103页 |
| ·窗口层镀制 | 第103页 |
| ·各膜层测试结果及分析 | 第103-107页 |
| ·背电极层特性 | 第103-104页 |
| ·吸收层特性 | 第104-106页 |
| ·电特性 | 第106-107页 |
| ·本章小结 | 第107页 |
| 参考文献 | 第107-108页 |
| 第四章 柔性基底a-Si薄膜太阳电池沉积技术探索研究 | 第108-129页 |
| ·引言 | 第108-109页 |
| ·阻挡层材料选择及制备工艺研究 | 第109-113页 |
| ·不同阻挡层材料阻挡效果考察 | 第109-111页 |
| ·不同成分NiAl合金阻挡层阻挡效果研究 | 第111-113页 |
| ·小结 | 第113页 |
| ·非晶硅薄膜的溅射制备技术研究 | 第113-120页 |
| ·样品的制备 | 第113-114页 |
| ·不同工艺条件对硅薄膜沉积速率的影响 | 第114-117页 |
| ·不同工艺条件对薄膜晶化程度的影响 | 第117-118页 |
| ·薄膜表面形貌观察 | 第118-119页 |
| ·小结 | 第119-120页 |
| ·Si薄膜掺杂研究 | 第120-128页 |
| ·非晶硅薄膜的N型、P型掺杂研究 | 第120-121页 |
| ·样品测试与表征 | 第121-123页 |
| ·薄膜的厚度测量 | 第121-122页 |
| ·薄膜的霍尔分析 | 第122-123页 |
| ·数据分析及讨论 | 第123-128页 |
| ·硼掺杂(N型)数据分析及讨论 | 第123-125页 |
| ·磷烷掺杂试验过程及数据分析 | 第125-128页 |
| ·结论 | 第128-129页 |
| 第五章 总结 | 第129-131页 |
| ·本论文的主要工作及研究成果 | 第129页 |
| ·下一步的工作及展望 | 第129-131页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第131-134页 |
| 致谢 | 第134页 |
