| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 碳基离子镀层的发展与应用 | 第12-15页 |
| 1.2.1 减摩耐磨镀层的发展与应用 | 第12-13页 |
| 1.2.2 碳基离子镀层的发展与应用 | 第13-15页 |
| 1.3 碳基离子镀层的结构与性能 | 第15-19页 |
| 1.3.1 碳原子的成键结构 | 第15-16页 |
| 1.3.2 碳基离子镀层的结构模型 | 第16-17页 |
| 1.3.3 碳基离子镀层的沉积机理 | 第17-19页 |
| 1.3.4 碳基离子镀层的性能与应用 | 第19页 |
| 1.4 碳基离子镀层的制备方法 | 第19-23页 |
| 1.4.1 化学气相沉积技术 | 第19-20页 |
| 1.4.2 物理气相沉积技术 | 第20页 |
| 1.4.3 磁控溅射离子镀技术 | 第20-23页 |
| 1.5 本文的研究意义及研究内容 | 第23-27页 |
| 1.5.1 研究意义 | 第23-24页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第24-25页 |
| 1.5.3 技术路线 | 第25-27页 |
| 2 碳基离子镀层的制备及分析检测方法 | 第27-35页 |
| 2.1 实验设备及镀层的制备 | 第27-29页 |
| 2.1.1 实验设备 | 第27-28页 |
| 2.1.2 实验材料及其前处理 | 第28-29页 |
| 2.1.3 碳基离子镀层制备的工艺流程 | 第29页 |
| 2.2 碳基离子镀层的结构表征 | 第29-31页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第29-30页 |
| 2.2.2 原子力显微镜(AFM)分析 | 第30页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜(TEM)分析 | 第30页 |
| 2.2.4 X射线衍射(XRD)分析 | 第30页 |
| 2.2.5 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第30-31页 |
| 2.2.6 拉曼光谱(Raman)分析 | 第31页 |
| 2.3 碳基离子镀层的性能测试 | 第31-35页 |
| 2.3.1 纳米压入测试 | 第31-32页 |
| 2.3.2 内应力测试 | 第32页 |
| 2.3.3 结合强度测试 | 第32页 |
| 2.3.4 摩擦磨损性能测试 | 第32-35页 |
| 3 Cr的晶化特性对碳基离子镀层微观结构及摩擦学性能的影响 | 第35-57页 |
| 3.1 实验方法 | 第35-36页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第36-54页 |
| 3.2.1 Cr含量对碳基离子镀层微观结构的影响 | 第36-47页 |
| 3.2.2 Cr含量对碳基离子镀层力学性能的影响 | 第47-50页 |
| 3.2.3 Cr含量对碳基离子镀层摩擦学性能的影响 | 第50-54页 |
| 3.3 本章小结 | 第54-57页 |
| 4 CrN的晶化特性对碳基离子镀层微观结构及摩擦学性能的影响 | 第57-73页 |
| 4.1 实验方法 | 第57-58页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第58-71页 |
| 4.2.1 C靶电流密度对碳基离子镀层微观结构的影响 | 第58-67页 |
| 4.2.2 C靶电流密度对碳基离子镀层力学性能的影响 | 第67-69页 |
| 4.2.3 C靶电流密度对碳基离子镀层摩擦学性能的影响 | 第69-71页 |
| 4.3 本章小结 | 第71-73页 |
| 5 辅助碳源CH_4对碳基离子镀层微观结构及摩擦学性能的影响 | 第73-89页 |
| 5.1 实验方法 | 第73-74页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第74-87页 |
| 5.2.1 CH_4气流量对碳基离子镀层微观结构的影响 | 第74-82页 |
| 5.2.2 CH_4气流量对碳基离子镀层力学性能的影响 | 第82-84页 |
| 5.2.3 CH_4气流量对碳基离子镀层摩擦学性能的影响 | 第84-87页 |
| 5.3 本章小结 | 第87-89页 |
| 6 C靶电流密度对碳基离子镀层微观结构和摩擦学性能的影响 | 第89-119页 |
| 6.1 直流电场C靶电流密度对碳基离子镀层微观结构及摩擦学性能的影响 | 第89-103页 |
| 6.1.1 实验方法 | 第89-90页 |
| 6.1.2 C靶电流密度对碳基离子镀层微观结构的影响 | 第90-98页 |
| 6.1.3 C靶电流密度对碳基离子镀层力学性能的影响 | 第98-101页 |
| 6.1.4 C靶电流密度对碳基离子镀层摩擦学性能的影响 | 第101-103页 |
| 6.2 脉冲电场C靶峰值电流密度对碳基离子镀层微观结构及摩擦学性能的影响 | 第103-117页 |
| 6.2.1 实验方法 | 第103-104页 |
| 6.2.2 C靶峰值电流密度对碳基离子镀层微观结构的影响 | 第104-113页 |
| 6.2.3 C靶峰值电流密度对碳基离子镀层力学性能的影响 | 第113-115页 |
| 6.2.4 C靶峰值电流密度对碳基离子镀层摩擦学性能的影响 | 第115-117页 |
| 6.3 本章小结 | 第117-119页 |
| 7 结论 | 第119-121页 |
| 论文的主要创新与贡献 | 第121-123页 |
| 致谢 | 第123-125页 |
| 参考文献 | 第125-139页 |
| 攻读博士学位期间的研究成果 | 第139页 |
